改进型半导体整流桥生产工艺流程

    公开(公告)号:CN108666226A

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:CN201810527109.9

    申请日:2018-05-29

    IPC分类号: H01L21/60 H01L23/495

    摘要: 本发明公开了一种改进型半导体整流桥生产工艺流程,属于电力电子半导体器件领域,解决了传统整流桥生产工艺易出现虚焊、空焊现象的问题。主要利用高速电动旋转台高速旋转去除晶粒、P面焊片、N面焊片在存放过程中产生的氧化层。本发明巧妙将高速电动旋转台应用于半导体技术领域,利用其高速旋转的极细高密度金属刷去除晶粒表层及焊面表层的氧化层,使得晶粒与PN面焊片接触面积高达100%,有效杜绝整流桥生产过程中产生的空焊、虚焊现象,大幅度提高产品的使用寿命本发明工艺流程操作步骤简单,实现成本低,能为企业创造可观经济、社会效益,可广泛应用于半导体器件技术领域。