一种增强键合强度的晶圆键合方法及结构

    公开(公告)号:CN105206536A

    公开(公告)日:2015-12-30

    申请号:CN201510504497.5

    申请日:2015-08-17

    发明人: 孙鹏 胡胜 王前文

    IPC分类号: H01L21/50 H01L23/08

    摘要: 本发明涉及一种增强键合强度的晶圆键合方法,包括,提供两片待键合的晶圆,分别为晶圆一和晶圆二;在晶圆一的表面上淀积形成第一层二氧化硅薄膜,在晶圆二的表面上进行热氧化处理形成热氧化层;在经过平坦化处理的第一层二氧化硅薄膜上淀积形成富硅的第二层二氧化硅薄膜,所述第一层二氧化硅薄膜上和所述第二层二氧化硅薄膜上均分布有未饱和成键的硅原子,且所述第二层二氧化硅薄膜上的未饱和成键的硅原子浓度高于第一层二氧化硅薄膜上的未饱和成键的硅原子浓度;将晶圆一的第二层二氧化硅薄膜与晶圆二的热氧化层相接触进行键合。本发明可以提高晶圆键合强度,可以消除封装过程中晶圆键合界面有裂缝的现象。