半导体装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108093655A

    公开(公告)日:2018-05-29

    申请号:CN201680039677.3

    申请日:2016-09-21

    发明人: 福田祐介

    IPC分类号: H01L21/28

    摘要: 本发明的半导体装置,包括:碳化硅半导体层,其主面侧配置有多个层;以银为主要成分构成的电极层,为所述多个层中的一个层,并且具有与导电性的连接构件相连接的电极连接面;以及以碳化钛为主要成分构成的第一金属层,为所述多个层中的与所述电极层不同的一个层,并且具有:所述电极连接面露出至外部后与所述电极层相接合的第一接合面、以及与所述半导体层电气连接的第二接合面。