焊盘形成方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105609438A

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201610087254.0

    申请日:2016-02-16

    IPC分类号: H01L21/60

    摘要: 一种焊盘形成方法,包括:提供具有顶层金属结构的衬底;在所述顶层金属结构上形成阻挡层;在所述阻挡层层上形成氧化物层;在所述氧化物层上形成钝化层;刻蚀所述钝化层、所述氧化物层和所述阻挡层,直至形成焊盘开口,被所述焊盘开口暴露的所述顶层金属结构成为焊盘;刻蚀所述氧化物层包括第一主刻蚀和第一过刻蚀;刻蚀所述阻挡层包括第二主刻蚀和第二过刻蚀。所述焊盘形成方法提高所形成焊盘的导电性能和外观质量。