键合基底及其形成方法、三维封装结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN104517921A

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201310463714.1

    申请日:2013-09-30

    发明人: 陈福成

    IPC分类号: H01L23/488 H01L21/48

    摘要: 一种键合基底及其形成方法、三维封装结构及其形成方法,所述键合基底包括:晶圆;位于所述晶圆上的绝缘层、及多个焊盘,相邻两个所述焊盘被绝缘层隔开,所述焊盘包括:焊盘底部、及位于所述焊盘底部上方的焊盘凸部,所述焊盘底部的上表面低于或齐平于绝缘层的上表面,所述焊盘凸部的上表面高于绝缘层的上表面,所述焊盘凸部在晶圆表面上的投影,位于所述焊盘底部在晶圆表面上的投影内。解决了现有利用金属-金属键合方法形成三维封装结构的方法容易造成相邻两个焊盘短路的问题。