半导体器件及其制造方法
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108109927A

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:CN201711058025.7

    申请日:2017-11-01

    Abstract: 本申请涉及半导体器件及其制造方法。为了提高半导体器件的可靠性,半导体器件包括半导体芯片、裸片焊盘、多个引线和密封部分。裸片焊盘和引线由主要包含铜的金属材料制成。镀层形成在裸片焊盘的顶表面上。镀层由银镀层、金镀层或铂镀层形成。半导体芯片经由接合材料安装在裸片焊盘的顶表面上的镀层上。镀层被接合材料覆盖以不与密封部分接触。

    半导体装置及其制造方法
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108364939B

    公开(公告)日:2023-01-06

    申请号:CN201711444287.7

    申请日:2017-12-27

    Abstract: 根据本发明,在半导体装置的可靠性方面得到了改进。SIP包括:模拟芯片、具有面积比所述模拟芯片的主表面小的主表面的微计算机芯片、安装模拟芯片和微计算机芯片的芯片垫、以及环绕所述芯片垫布置的多个引线。该SIP还包括:与所述芯片垫一体成型的多个悬挂引线、多个导线、密封体。其中,多个导线将所述模拟芯片的电极与所述引线电连接,并将微计算机芯片与引线电连接。在所述密封体中密封所述模拟芯片和所述微计算机芯片。所述芯片垫的第一弯曲部和第二弯曲部的曲率半径大于芯片垫的第三弯曲部的曲率半径。

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