多栅极介电结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN102931203B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201210115555.1

    申请日:2012-04-18

    CPC classification number: H01L27/14614 H01L27/14689

    Abstract: 本发明提供了多栅极介电半导体结构以及形成这种结构的方法。在一个实施例中,一种用于形成半导体结构的方法包括提供包括像素阵列区域、输入/输出(I/O)区域、以及核心区域的衬底。该方法进一步包括在像素阵列区域上方形成第一栅极介电层,在I/O区域上方形成第二栅极介电层,并且在核心区域上方形成第三栅极介电层,其中,第一栅极介电层、第二栅极介电层、以及第三栅极介电层中的每一个都被形成为由不同的材料构成并且具有不同的厚度。本发明还提供了一种多栅极介电结构及其形成方法。

    带有经过改进的应力免疫的背面照明图像传感器

    公开(公告)号:CN102769021B

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:CN201110241590.3

    申请日:2011-08-17

    CPC classification number: H01L27/1464 H01L27/14623 H01L27/14636

    Abstract: 提供了一种图像传感器件。该图像传感器件包括具有正面和背面的基板,该背面相对于正面。该基板具有像素区域和外围区域。该图像传感器件包括设置在基板的像素区域中的多个辐射感应区域。每个辐射感应区域都能够通过操作感测出通过背面投射到辐射感应区域的辐射。该图像传感器件包括设置在外围区域中的参考像素。该图像传感器件包括连接到基板的正面的互连结构。该互连结构包括多个互连层。该图像传感器件包括形成在基板的背面上方的薄膜。该薄膜使得基板受到张应力。该图像传感器件包括设置在薄膜上方的辐射阻挡器件。本发明还提供了一种带有经过改进的应力免疫的背面照明图像传感器。

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