公开(公告)号：US09524945B2

公开(公告)日：2016-12-20

申请号：US12781987

申请日：2010-05-18

申请人： Chien Ling Hwang ,  Yi-Wen Wu ,  Chung-Shi Liu

发明人： Chien Ling Hwang ,  Yi-Wen Wu ,  Chung-Shi Liu

IPC分类号： H01L23/488 ,  H01L23/00

CPC分类号： H01L24/13 ,  H01L24/05 ,  H01L24/11 ,  H01L24/16 ,  H01L24/81 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05611 ,  H01L2224/05639 ,  H01L2224/05644 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/05671 ,  H01L2224/10126 ,  H01L2224/10145 ,  H01L2224/11019 ,  H01L2224/1145 ,  H01L2224/11452 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/11464 ,  H01L2224/11622 ,  H01L2224/11849 ,  H01L2224/1308 ,  H01L2224/13083 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/13139 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/13164 ,  H01L2224/13166 ,  H01L2224/13181 ,  H01L2224/13552 ,  H01L2224/13565 ,  H01L2224/1357 ,  H01L2224/13575 ,  H01L2224/13686 ,  H01L2224/1369 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/16227 ,  H01L2224/81193 ,  H01L2224/814 ,  H01L2224/81447 ,  H01L2224/81815 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01012 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01025 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/0103 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01038 ,  H01L2924/0104 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01049 ,  H01L2924/01073 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/0504 ,  H01L2924/07025 ,  H01L2924/1305 ,  H01L2924/1306 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/1421 ,  H01L2924/1431 ,  H01L2924/1437 ,  H01L2924/3841 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2924/00

摘要： An L-shaped sidewall protection process is used for Cu pillar bump technology. The L-shaped sidewall protection structure is formed of at least one of non-metal material layers, for example a dielectric material layer, a polymer material layer or combinations thereof.

摘要翻译： Cu柱凸块技术采用L形侧壁保护工艺。 L形侧壁保护结构由非金属材料层，例如介电材料层，聚合物材料层或其组合中的至少一种形成。

公开(公告)号：US09048135B2

公开(公告)日：2015-06-02

申请号：US13028838

申请日：2011-02-16

申请人： Chien Ling Hwang ,  Zheng-Yi Lim ,  Chung-Shi Liu

发明人： Chien Ling Hwang ,  Zheng-Yi Lim ,  Chung-Shi Liu

IPC分类号： H01L23/488 ,  H01L21/441 ,  H01L23/00

CPC分类号： H01L24/11 ,  H01L23/562 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L24/81 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/03831 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05144 ,  H01L2224/05666 ,  H01L2224/1145 ,  H01L2224/11452 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/11464 ,  H01L2224/11622 ,  H01L2224/11823 ,  H01L2224/11825 ,  H01L2224/11849 ,  H01L2224/1308 ,  H01L2224/13083 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/13139 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/13157 ,  H01L2224/13164 ,  H01L2224/13565 ,  H01L2224/1357 ,  H01L2224/13582 ,  H01L2224/13583 ,  H01L2224/13657 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/16227 ,  H01L2224/16237 ,  H01L2224/81193 ,  H01L2224/81447 ,  H01L2224/81815 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01012 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01027 ,  H01L2924/01028 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/0103 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01038 ,  H01L2924/0104 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01049 ,  H01L2924/01051 ,  H01L2924/01073 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/01327 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/0539 ,  H01L2924/1305 ,  H01L2924/1306 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/20102 ,  H01L2924/2075 ,  H01L2924/20751 ,  H01L2924/00

摘要： An integrated circuit device includes a Cu pillar and a solder layer overlying the Cu pillar. A Co-containing metallization layer is formed to cover the Cu pillar and the solder layer, and then a thermally reflow process is performed to form a solder bump and drive the Co element into the solder bump. Next, an oxidation process is performed to form a cobalt oxide layer on the sidewall surface of the Cu pillar.

摘要翻译： 集成电路器件包括Cu柱和覆盖Cu柱的焊料层。 形成含Co金属化层以覆盖Cu柱和焊料层，然后进行热回流工艺以形成焊料凸块并将Co元件驱动到焊料凸块中。 接下来，进行氧化处理以在Cu柱的侧壁表面上形成氧化钴层。

公开(公告)号：US08841766B2

公开(公告)日：2014-09-23

申请号：US12730411

申请日：2010-03-24

申请人： Chien Ling Hwang ,  Yi-Wen Wu ,  Chun-Chieh Wang ,  Chung-Shi Liu

发明人： Chien Ling Hwang ,  Yi-Wen Wu ,  Chun-Chieh Wang ,  Chung-Shi Liu

IPC分类号： H01L23/50 ,  H01L23/00

CPC分类号： H01L21/76885 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L24/81 ,  H01L2224/023 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/0361 ,  H01L2224/03614 ,  H01L2224/03901 ,  H01L2224/03912 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05016 ,  H01L2224/05024 ,  H01L2224/05073 ,  H01L2224/05166 ,  H01L2224/05181 ,  H01L2224/05187 ,  H01L2224/05578 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/0569 ,  H01L2224/10126 ,  H01L2224/1132 ,  H01L2224/1145 ,  H01L2224/11452 ,  H01L2224/1146 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/11464 ,  H01L2224/1147 ,  H01L2224/11614 ,  H01L2224/1182 ,  H01L2224/11827 ,  H01L2224/11849 ,  H01L2224/11901 ,  H01L2224/11912 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13561 ,  H01L2224/13562 ,  H01L2224/13564 ,  H01L2224/13565 ,  H01L2224/13582 ,  H01L2224/13583 ,  H01L2224/13609 ,  H01L2224/13611 ,  H01L2224/13639 ,  H01L2224/13644 ,  H01L2224/13647 ,  H01L2224/13655 ,  H01L2224/13664 ,  H01L2224/1369 ,  H01L2224/16238 ,  H01L2224/81024 ,  H01L2224/81191 ,  H01L2224/814 ,  H01L2224/81411 ,  H01L2224/81413 ,  H01L2224/81416 ,  H01L2224/81439 ,  H01L2224/81447 ,  H01L2224/81455 ,  H01L2224/81815 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01007 ,  H01L2924/01012 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01014 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01025 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/0103 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01038 ,  H01L2924/0104 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01049 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2924/01073 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/04953 ,  H01L2924/1305 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/206 ,  H01L2924/2064 ,  H01L2924/20641 ,  H01L2924/20642 ,  H01L2924/01028 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/01083 ,  H01L2924/01051 ,  H01L2924/00

摘要： Sidewall protection processes are provided for Cu pillar bump technology, in which a protection structure on the sidewalls of the Cu pillar bump is formed of at least one of non-metal material layers, for example a dielectric material layer, a polymer material layer, or combinations thereof.

摘要翻译： 提供了用于Cu柱凸点技术的侧壁保护工艺，其中Cu柱凸起的侧壁上的保护结构由非金属材料层，例如电介质材料层，聚合物材料层或聚合物材料层中的至少一个形成 其组合。

公开(公告)号：US08823167B2

公开(公告)日：2014-09-02

申请号：US13551421

申请日：2012-07-17

申请人： Yi-Wen Wu ,  Cheng-Chung Lin ,  Chien Ling Hwang ,  Chung-Shi Liu

发明人： Yi-Wen Wu ,  Cheng-Chung Lin ,  Chien Ling Hwang ,  Chung-Shi Liu

IPC分类号： H01L23/48 ,  H01L23/52

CPC分类号： H01L23/49811 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05023 ,  H01L2224/05166 ,  H01L2224/05181 ,  H01L2224/05187 ,  H01L2224/05541 ,  H01L2224/05568 ,  H01L2224/05582 ,  H01L2224/05611 ,  H01L2224/05639 ,  H01L2224/05644 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/05655 ,  H01L2224/05666 ,  H01L2224/05671 ,  H01L2224/05681 ,  H01L2224/05687 ,  H01L2224/10145 ,  H01L2224/11002 ,  H01L2224/1112 ,  H01L2224/1132 ,  H01L2224/1145 ,  H01L2224/11452 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/11464 ,  H01L2224/1147 ,  H01L2224/11827 ,  H01L2224/11831 ,  H01L2224/11849 ,  H01L2224/11912 ,  H01L2224/13005 ,  H01L2224/13007 ,  H01L2224/13023 ,  H01L2224/13083 ,  H01L2224/13109 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/13113 ,  H01L2224/13116 ,  H01L2224/13118 ,  H01L2224/1312 ,  H01L2224/13123 ,  H01L2224/13124 ,  H01L2224/13139 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/13164 ,  H01L2224/13166 ,  H01L2224/13169 ,  H01L2224/1317 ,  H01L2224/13171 ,  H01L2224/13181 ,  H01L2224/13551 ,  H01L2224/13561 ,  H01L2224/13565 ,  H01L2224/1357 ,  H01L2224/1358 ,  H01L2224/13582 ,  H01L2224/13644 ,  H01L2224/13647 ,  H01L2224/13655 ,  H01L2224/13664 ,  H01L2224/13686 ,  H01L2224/13687 ,  H01L2224/13688 ,  H01L2224/1369 ,  H01L2224/81192 ,  H01L2224/81193 ,  H01L2224/814 ,  H01L2224/81815 ,  H01L2224/94 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01012 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01025 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/0103 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01038 ,  H01L2924/0104 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01049 ,  H01L2924/01073 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/04953 ,  H01L2924/05042 ,  H01L2924/05442 ,  H01L2924/0665 ,  H01L2924/07025 ,  H01L2924/1305 ,  H01L2924/1306 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/19041 ,  H01L2924/3841 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2224/11 ,  H01L2924/01007 ,  H01L2924/01014 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/05552

摘要： This description relates to an integrated circuit device including a conductive pillar formed over a substrate. The conductive pillar has a sidewall surface and a top surface. The integrated circuit device further includes an under-bump-metallurgy (UBM) layer between the substrate and the conductive pillar. The UBM layer has a surface region. The integrated circuit device further includes a protection structure on the sidewall surface of the conductive pillar and the surface region of the UBM layer. The protection structure is formed of a non-metal material.

摘要翻译： 该描述涉及一种集成电路器件，其包括形成在衬底上的导电柱。 导电柱具有侧壁表面和顶表面。 集成电路器件还包括在衬底和导电柱之间的凸起下 - 冶金（UBM）层。 UBM层具有表面区域。 集成电路装置还包括在导电柱的侧壁表面和UBM层的表面区域上的保护结构。 保护结构由非金属材料形成。

公开(公告)号：US08679591B2

公开(公告)日：2014-03-25

申请号：US12891487

申请日：2010-09-27

申请人： Chien Ling Hwang ,  Yi-Li Hsiao ,  Chung-Shi Liu

发明人： Chien Ling Hwang ,  Yi-Li Hsiao ,  Chung-Shi Liu

IPC分类号： B05D1/18

CPC分类号： H01L24/13 ,  H01L24/11 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/16 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01011 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/14

摘要： An embodiment is a method for forming a semiconductor assembly including cleaning a connector including copper formed on a substrate, applying cold tin to the connector, applying hot tin to the connector, and spin rinsing and drying the connector.

摘要翻译： 一个实施例是一种用于形成半导体组件的方法，包括清洁在基板上形成的铜的连接器，向连接器施加冷锡，向连接器施加热锡，并旋转冲洗和干燥连接器。

公开(公告)号：US20130146647A1

公开(公告)日：2013-06-13

申请号：US13313371

申请日：2011-12-07

申请人： Chung-Shi Liu ,  Chien Ling Hwang ,  Bor-Ping Jang ,  Ying-Jui Huang

发明人： Chung-Shi Liu ,  Chien Ling Hwang ,  Bor-Ping Jang ,  Ying-Jui Huang

IPC分类号： B23K31/02

CPC分类号： B23K1/0016 ,  B23K1/0053 ,  B23K1/012 ,  B23K1/206 ,  B23K2101/42 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L24/75 ,  H01L24/81 ,  H01L2224/131 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/75272 ,  H01L2224/75283 ,  H01L2224/75651 ,  H01L2224/765 ,  H01L2224/81097 ,  H01L2224/81211 ,  H01L2224/81912 ,  H01L2224/81948 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/014

摘要： A method includes reflowing a solder region of a package structure, and performing a cleaning on the package structure at a cleaning temperature higher than a room temperature. Between the step of reflowing and the step of cleaning, the package structure is not cooled to temperatures close to the room temperature.

摘要翻译： 一种方法包括回流包装结构的焊料区域，并且在高于室温的清洁温度下对包装结构进行清洁。 在回流步骤和清洁步骤之间，封装结构没有被冷却到接近于室温的温度。

公开(公告)号：US20130115752A1

公开(公告)日：2013-05-09

申请号：US13290855

申请日：2011-11-07

申请人： Chien Ling Hwang ,  Ying-Jui Huang ,  Yi-Li Hsiao

发明人： Chien Ling Hwang ,  Ying-Jui Huang ,  Yi-Li Hsiao

IPC分类号： H01L21/762 ,  B23K3/08 ,  B23K37/04

CPC分类号： H01L24/75 ,  H01L21/67144 ,  H01L2224/7501 ,  H01L2224/7565 ,  H01L2224/75745 ,  H01L2224/75753 ,  H01L2224/75754 ,  H01L2224/7598 ,  H01L2224/81815 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/00014

摘要： An apparatus includes a guide ring, and a bond head installed on the guide ring. The bond head is configured to move in loops along the guide ring. The bond head is configured to pick up dies and place the dies during the loops

摘要翻译： 一种装置包括导向环和安装在引导环上的接合头。 结合头被构造成沿着导向环移动成环。 结合头被配置为拾取模具并且在回路期间放置模具

公开(公告)号：US08104666B1

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：US12874009

申请日：2010-09-01

申请人： Chien Ling Hwang ,  Ying-Jui Huang ,  Cheng-Chung Lin ,  Chung-Shi Liu

发明人： Chien Ling Hwang ,  Ying-Jui Huang ,  Cheng-Chung Lin ,  Chung-Shi Liu

IPC分类号： B23K31/02

CPC分类号： H01L24/81 ,  B23K1/0012 ,  B23K1/203 ,  B23K3/087 ,  B23K2101/42 ,  H01L24/95 ,  H01L2224/131 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/75251 ,  H01L2224/75252 ,  H01L2224/7565 ,  H01L2224/75744 ,  H01L2224/75745 ,  H01L2224/75755 ,  H01L2224/81143 ,  H01L2224/81191 ,  H01L2224/81193 ,  H01L2224/81204 ,  H01L2224/814 ,  H01L2224/81907 ,  H01L2224/81986 ,  H01L2224/97 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/14 ,  H01L2224/81 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01014 ,  H01L2924/00

摘要： A method of bonding includes providing a first work piece, and attaching a second work piece on the first work piece, with a solder bump disposed between the first and the second work pieces. The second work piece is heated using a heating head of a heating tool to melt the solder bump. After the step of heating the second work piece, one of the first and the second work pieces is allowed to move freely in a horizontal direction to self-align the first and the second work pieces. After the step of allowing one of the first and the second work pieces to move, a temperature of the heating head is lowed until the first solder bump solidifies to form a second solder bump.

摘要翻译： 一种接合方法包括提供第一工件，并且将第二工件附接在第一工件上，其中焊料凸块设置在第一和第二工件之间。 使用加热工具的加热头加热第二工件以熔化焊料凸块。 在加热第二工件的步骤之后，允许第一工件和第二工件中的一个在水平方向上自由移动以使第一工件和第二工件自对准。 在允许第一和第二工件中的一个移动的步骤之后，加热头的温度降低直到第一焊料凸点固化以形成第二焊料凸块。

公开(公告)号：US20110101521A1

公开(公告)日：2011-05-05

申请号：US12907249

申请日：2010-10-19

申请人： Chien Ling HWANG ,  Yi-Wen WU ,  Chung-Shi LIU

发明人： Chien Ling HWANG ,  Yi-Wen WU ,  Chung-Shi LIU

IPC分类号： H01L23/52

CPC分类号： H01L23/53238 ,  H01L21/76885 ,  H01L23/525 ,  H01L23/53223 ,  H01L23/5329 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/0361 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05027 ,  H01L2224/05166 ,  H01L2224/05572 ,  H01L2224/05582 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/1132 ,  H01L2224/1145 ,  H01L2224/11452 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/11464 ,  H01L2224/1147 ,  H01L2224/11825 ,  H01L2224/11849 ,  H01L2224/13082 ,  H01L2224/13083 ,  H01L2224/13109 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/13113 ,  H01L2224/13116 ,  H01L2224/13139 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/13164 ,  H01L2224/13562 ,  H01L2224/13565 ,  H01L2224/1357 ,  H01L2224/13611 ,  H01L2224/16 ,  H01L2224/94 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01012 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01025 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/0103 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01038 ,  H01L2924/0104 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01049 ,  H01L2924/01073 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2224/11 ,  H01L2224/03 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2224/05552 ,  H01L2924/00

摘要： A copper interconnect line formed on a passivation layer is protected by a copper-containing material layer including a group III element, a group IV element, a group V element or combinations thereof.

摘要翻译： 形成在钝化层上的铜互连线由包含III族元素，IV族元素，V族元素或其组合的含铜材料层保护。

公开(公告)号：US20100285723A1

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：US12437315

申请日：2009-05-07

申请人： Yu-Liang Lin ,  Chien Ling Hwang ,  Jean Wang ,  Chen-Hua Yu

发明人： Yu-Liang Lin ,  Chien Ling Hwang ,  Jean Wang ,  Chen-Hua Yu

IPC分类号： B24B49/16 ,  B24B7/22 ,  B24B49/08 ,  B24B53/02 ,  B24B57/02

CPC分类号： B24B57/02 ,  B24B37/107 ,  B24B53/017 ,  H01L21/02052

摘要： A chemical mechanical polishing (CMP) device for processing a wafer is provided which includes a plate for supporting the wafer to be processed in a face-up orientation, a polishing head opposing the plate, wherein the polishing head includes a rotatable polishing pad operable to contact the wafer while the polishing pad is rotating, and a slurry coating system providing a slurry to the polishing pad for polishing the wafer.

摘要翻译： 提供了一种用于处理晶片的化学机械抛光（CMP）装置，其包括用于以面朝上的方向支撑待加工的晶片的板，与该板相对的抛光头，其中抛光头包括可旋转的抛光垫， 在抛光垫旋转的同时接触晶片;以及浆料涂覆系统，其向抛光垫提供浆料以抛光晶片。