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公开(公告)号：CN118927155A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410966129.1
申请日：2020-08-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B49/14 , B24B37/015 , B24B57/02
Abstract: 本申请公开了在配给下通过混合的浆料温度控制。一种化学机械抛光系统包括：平台，所述平台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；加热流体的源；储藏室，所述储藏室用于保持抛光液体；以及配给器，所述配给器具有悬吊在平台之上的一个或多个孔，以将抛光液体引导至抛光表面上，其中加热流体的源耦合至配给器，并且配置成在抛光液体离开储藏室之后并且在抛光液体被配给至抛光表面上之前将加热流体传输至抛光液体中以加热抛光液体。
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公开(公告)号：CN114901427B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080087342.5
申请日：2020-11-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/04 , B24B37/26 , B24B37/30 , H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 化学机械抛光系统包括：压板，用以保持抛光垫；载体头，用以将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；以及控制器。抛光垫具有抛光控制沟槽。载体通过第一致动器而可跨抛光垫横向移动，并且通过第二致动器而可旋转。控制器使载体头的横向振动与载体头的旋转同步，使得在载体头的多个连续振动上，使得当基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕载体头的旋转轴线的方位角位置处时，第一角度幅面覆盖抛光表面，并且当基板的边缘部分的第二角度幅面在方位角位置处时，第二角度幅面覆盖抛光控制沟槽。
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公开(公告)号：CN111149196B
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN201880063359.X
申请日：2018-11-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 一种化学机械研磨系统，包括支撑件、承载头、原位监控系统、温度控制系统及控制器，所述支撑件固持研磨垫，所述承载头在研磨工艺期间将基板抵靠所述研磨垫固持，所述原位监控系统经配置产生表示所述基板上的材料量的信号，所述温度控制系统控制所述研磨工艺的温度，所述控制器耦接到所述原位监控系统和所述温度控制系统。控制器经配置使温度控制系统响应所述信号而改变所述研磨工艺的温度。
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公开(公告)号：CN102892922A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201080065504.1
申请日：2010-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 安纳马莱·拉克师马纳 , 方俊 , 唐建设 , 达斯廷·W·霍 , 福兰斯马尔·斯楚弥特 , 艾伦·曹 , 汤姆·周 , 布赖恩·西-元·施赫 , 哈里·K·波奈卡恩提 , 克里斯·埃博斯帕希尔 , 原铮
IPC: C23C16/44 , H01L21/205
CPC classification number: H01L31/1824 , C23C16/24 , C23C16/452 , C23C16/45514 , C23C16/45565 , C23C16/4557 , C23C16/45574 , C23C16/5096 , H01L31/202 , Y02E10/545 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供用于在形成太阳能电池期间沉积非晶和微晶硅膜的装置和方法。在一个实施例中，提供方法和装置以产生氢自由基并将氢自由基直接引导至处理室的处理区域中以与含硅前驱体反应而在衬底上进行膜沉积。在一个实施例中，氢自由基由远程等离子体源产生并被直接引导经过视线路径到达处理区域中，以使得氢自由基在到达处理区域之前的能量损失最小化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113874164B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080038936.7
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/34 , H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。
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公开(公告)号：CN117381655A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311399068.7
申请日：2018-11-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/10 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B37/015 , B24B57/02
Abstract: 一种化学机械研磨系统，包括支撑件、承载头、原位监控系统、温度控制系统及控制器，所述支撑件固持研磨垫，所述承载头在研磨工艺期间将基板抵靠所述研磨垫固持，所述原位监控系统经配置产生表示所述基板上的材料量的信号，所述温度控制系统控制所述研磨工艺的温度，所述控制器耦接到所述原位监控系统和所述温度控制系统。控制器经配置使温度控制系统响应所述信号而改变所述研磨工艺的温度。
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公开(公告)号：CN114901427A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202080087342.5
申请日：2020-11-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/04 , B24B37/26 , B24B37/30 , H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 化学机械抛光系统包括：压板，用以保持抛光垫；载体头，用以将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；以及控制器。抛光垫具有抛光控制沟槽。载体通过第一致动器而可跨抛光垫横向移动，并且通过第二致动器而可旋转。控制器使载体头的横向振动与载体头的旋转同步，使得在载体头的多个连续振动上，使得当基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕载体头的旋转轴线的方位角位置处时，第一角度幅面覆盖抛光表面，并且当基板的边缘部分的第二角度幅面在方位角位置处时，第二角度幅面覆盖抛光控制沟槽。
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公开(公告)号：CN114434320A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202111293339.1
申请日：2021-11-03
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容总体涉及基板边缘清洁和基板承载头间隙清洁的设备和方法。本公开内容涉及装载杯，所述装载杯包括环形基板站，所述环形基板站被配置为接收基板。环形基板站包围位于装载杯内的喷雾器。喷雾器包括一组激励流体喷嘴，所述一组激励流体喷嘴邻近在环形基板站与喷雾器之间的界面设置在喷雾器的上表面上。一组激励流体喷嘴被配置为相对于上表面以向上角度释放激励流体。
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公开(公告)号：CN119522151A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202380053214.2
申请日：2023-07-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B49/14 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光装置，所述装置具有加热系统、净化气体源、净化液体源、以及控制器。加热系统包括加热气体源、在平台上延伸的臂，以及在所述臂中的具有多个开口的歧管，所述歧管定位在平台上方且与抛光垫分离，以用于将加热气体输送至抛光垫上。控制器被配置为使得加热气体通过歧管和多个开口从加热气体源流动以在抛光操作期间加热抛光垫，并且使得装置执行净化操作，所述净化操作通过歧管和多个开口在从净化气体源流动净化气体与从净化液体源流动净化液体之间交替。
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