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公开(公告)号：CN115066316B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202180013340.6
申请日：2021-06-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B53/017 , B24B37/30 , B24B37/015 , B08B3/10 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光系统，其包括蒸汽产生器，该蒸汽产生器具有：加热元件，其对容器施加热量以产生蒸汽；开口，其将蒸汽输送至抛光垫上；第一阀，其在开口与容器之间的流体管线中；传感器，其监测蒸汽参数；及控制系统。控制系统经配置以：根据配方中的蒸汽输送排程使阀打开及关闭；接收来自传感器的蒸汽参数的测量值；接收蒸汽参数的目标值；用目标值及测量值作为输入来执行比例积分微分控制算法，从而控制第一阀和/或第二释压阀和/或加热元件，以使得在根据蒸汽输送排程打开阀之前测量值基本上到达目标值。
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公开(公告)号：CN111315533B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN201880071755.7
申请日：2018-10-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B57/02 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B49/00 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本公开的实施例提供了用于在CMP工艺期间检测在流体输送系统中的堵塞的设备以及在CMP工艺期间检测在流体输送系统中的堵塞的方法。具体而言，本文的实施例提供了一种分流器歧管，其经配置以实现监测设置在其中的抛光流体的压力。监测在分流器歧管中的流体压力实现检测在输送线和/或分配喷嘴中的堵塞，堵塞抑制和/或阻止通过其或从其的抛光流体流动。
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公开(公告)号：CN111315533A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201880071755.7
申请日：2018-10-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B57/02 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B49/00 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本公开的实施例提供了用于在CMP工艺期间检测在流体输送系统中的堵塞的设备以及在CMP工艺期间检测在流体输送系统中的堵塞的方法。具体而言，本文的实施例提供了一种分流器歧管，其经配置以实现监测设置在其中的抛光流体的压力。监测在分流器歧管中的流体压力实现检测在输送线和/或分配喷嘴中的堵塞，堵塞抑制和/或阻止通过其或从其的抛光流体流动。
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公开(公告)号：CN119522151A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202380053214.2
申请日：2023-07-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B49/14 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光装置，所述装置具有加热系统、净化气体源、净化液体源、以及控制器。加热系统包括加热气体源、在平台上延伸的臂，以及在所述臂中的具有多个开口的歧管，所述歧管定位在平台上方且与抛光垫分离，以用于将加热气体输送至抛光垫上。控制器被配置为使得加热气体通过歧管和多个开口从加热气体源流动以在抛光操作期间加热抛光垫，并且使得装置执行净化操作，所述净化操作通过歧管和多个开口在从净化气体源流动净化气体与从净化液体源流动净化液体之间交替。
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公开(公告)号：CN117157170A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202280026870.9
申请日：2022-02-24
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/04
Abstract: 一种抛光组件包括化学机械抛光系统、流体源、以及将流体从流体源承载至化学机械抛光系统中的流体传输导管。化学机械抛光系统包括：用于支撑抛光垫的平台，用于支撑基板并使基板与抛光垫接触的承载头，以及用于导致平台与承载头之间的相对运动的电机。流体传输导管包括：电气绝缘管，从管的第一端至管的第二端围绕管的外部直径缠绕的导电缠绕件，以及附接至导电缠绕件第一端的导电线。导电缠绕件被配置成传导静电放电，并且导电线被配置成使静电放电从导电缠绕件传导至接地源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119317515A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202280096813.8
申请日：2022-10-17
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B53/017 , B24B37/30 , B24B47/12 , B24B29/00
Abstract: 抛光系统包括：平台，所述平台维持抛光垫；载体头，所述载体头维持基板抵靠所述抛光垫；调节器，所述调节器包括调节器头以维持调节器盘抵靠所述抛光垫；电机，所述电机移动可相对于所述平台横向地移动的所述调节器头；调节盘清洁站，将所述调节盘清洁站相邻定位于所述平台以清洁所述调节盘；以及控制器，所述控制器被配置成使所述电机在抛光所述基板期间所述调节器头在第一位置与第二位置之间来回移动，所述第一位置处所述调节器头在所述抛光垫上方，并且所述第二位置处所述调节器头在所述调节盘清洁站中。
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公开(公告)号：CN114724925A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202210010583.0
申请日：2022-01-05
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容涉及一种用于清洁基板的方法和设备。所述方法包括：旋转设置在基板支撑件上的基板；和通过正面喷嘴组件使用蒸汽喷涂所述基板的正面。通过背面分配器组件使用蒸汽喷涂所述基板的背面。将经加热的化学品分配到所述基板的所述正面之上。
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公开(公告)号：CN115996817A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202280005689.X
申请日：2022-05-02
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B53/017
Abstract: 一种化学机械研磨系统包括：平台，用以支撑研磨垫；承载头；电机，用以在平台与承载头之间生成相对运动；蒸汽生成器，包括容器和加热元件，所述容器具有进水口和一个或多个蒸汽出口，且所述加热元件被配置成施加热量至下腔室部分以生成蒸汽；喷嘴，被定向以将蒸汽从蒸汽生成器输送至研磨垫上；水箱，用以固持清洁流体；第一阀，位于容器与喷嘴之间的第一流体管线中，以将容器与喷嘴可控地连接和断开；第二阀，位于容器与水箱之间的第二流体管线中，以将容器与水箱可控地连接和断开，使得来自容器的蒸汽加热水箱中的流体。
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公开(公告)号：CN115066316A
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN202180013340.6
申请日：2021-06-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B53/017 , B24B37/30 , B24B37/015 , B08B3/10 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光系统，其包括蒸汽产生器，该蒸汽产生器具有：加热元件，其对容器施加热量以产生蒸汽；开口，其将蒸汽输送至抛光垫上；第一阀，其在开口与容器之间的流体管线中；传感器，其监测蒸汽参数；及控制系统。控制系统经配置以：根据配方中的蒸汽输送排程使阀打开及关闭；接收来自传感器的蒸汽参数的测量值；接收蒸汽参数的目标值；用目标值及测量值作为输入来执行比例积分微分控制算法，从而控制第一阀和/或第二释压阀和/或加热元件，以使得在根据蒸汽输送排程打开阀之前测量值基本上到达目标值。
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