-
公开(公告)号：CN113874164B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080038936.7
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/34 , H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。
-
公开(公告)号：CN112123196A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN202010973754.0
申请日：2015-07-10
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 化学机械研磨可用于“修整研磨”，其中在基板的前表面的受限区域上执行研磨。研磨垫与基板之间的接触区域可基本上比基板的半径表面小。在研磨期间，研磨垫可经历轨道运动。在轨道运动期间，可将研磨垫维持在固定的角定向上。接触区域可以是弧形。可通过从研磨垫的上部向下凸出的一个或更多个下部提供接触区域。可将研磨垫的周边部分垂直地固定至环形构件并且周边部分内的研磨垫的剩余部分可自由垂直。
-
公开(公告)号：CN115066316B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202180013340.6
申请日：2021-06-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B53/017 , B24B37/30 , B24B37/015 , B08B3/10 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光系统，其包括蒸汽产生器，该蒸汽产生器具有：加热元件，其对容器施加热量以产生蒸汽；开口，其将蒸汽输送至抛光垫上；第一阀，其在开口与容器之间的流体管线中；传感器，其监测蒸汽参数；及控制系统。控制系统经配置以：根据配方中的蒸汽输送排程使阀打开及关闭；接收来自传感器的蒸汽参数的测量值；接收蒸汽参数的目标值；用目标值及测量值作为输入来执行比例积分微分控制算法，从而控制第一阀和/或第二释压阀和/或加热元件，以使得在根据蒸汽输送排程打开阀之前测量值基本上到达目标值。
-
-
公开(公告)号：CN107078045B
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201580057701.1
申请日：2015-08-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304
Abstract: 揭示了使用定向成在喷洒主体下方且朝向入口端口引导流体的流体出口的抛光垫清洗系统及相关方法。结合浆料的抛光垫接触基板以使基板的表面平面化且移除基板缺陷，同时产生碎屑。喷洒系统从抛光垫移除碎屑以防止基板损坏并改良效率。通过在喷洒主体下方向抛光垫且朝向入口端口引导流体，可将碎屑携带在流体中并将碎屑引导至喷洒主体的内气室中。随后，经由出口端口从内气室中移除流体所携带的碎屑。以此方式，碎屑移除可减少基板缺陷，改良设施清洁度，且改良抛光垫效率。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105659362B
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201480057444.7
申请日：2014-09-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304
Abstract: 一种抛光模块，所述抛光模块包含：卡盘，所述卡盘具有基板接收表面和周界；以及一个或更多个抛光垫，所述一个或更多个抛光垫绕所述卡盘的所述周界定位，其中所述一个或更多个抛光垫的每一个邻近所述卡盘的所述基板接收表面、以挥扫图案是可以动的，并且所述抛光垫在径向移动上被限制为约小于从所述卡盘的所述周界测量的所述卡盘的半径的二分之一。
-
公开(公告)号：CN109414801A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780039337.5
申请日：2017-06-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B57/02 , B24B37/04 , B24B37/20 , B24B37/32 , H01L21/306
Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
-
公开(公告)号：CN106463383A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580030724.3
申请日：2015-07-10
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304
Abstract: 化学机械研磨可用于“修整研磨”，其中在基板的前表面的受限区域上执行研磨。研磨垫与基板之间的接触区域可基本上比基板的半径表面小。在研磨期间，研磨垫可经历轨道运动。在轨道运动期间，可将研磨垫维持在固定的角定向上。接触区域可以是弧形。可通过从研磨垫的上部向下凸出的一个或更多个下部提供接触区域。可将研磨垫的周边部分垂直地固定至环形构件并且周边部分内的研磨垫的剩余部分可自由垂直。
-
公开(公告)号：CN119260582A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411370759.9
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B37/34 , B24B49/14 , B24B55/06 , B24B53/017 , B08B5/02
Abstract: 一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当抛光系统中的部件与抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到部件上以清洁部件或使部件的温度上升到升高的温度。将部件移动到与抛光垫接触，这可以在部件返回到环境温度之前发生。
-
公开(公告)号：CN118905909A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411015629.3
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/015 , B24B37/34 , H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
29
records
(took 0.022 seconds)
