公开(公告)号：CN106471607B

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN201580034167.2

申请日：2015-05-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈志宏 ,  J·古鲁萨米 ,  S·M·苏尼加

IPC: H01L21/304

Abstract: 研磨设备包括外壳、耦接至该外壳的柔性底座、以及设置于该柔性底座的第一侧上的接触区域，其中该柔性底座基于该外壳与该柔性底座的第二侧内含有的压力而膨胀和收缩，以于该第一侧形成接触面积，该接触面积小于该柔性底座的表面面积。

公开(公告)号：CN105580115B

公开(公告)日：2020-02-18

申请号：CN201480052565.2

申请日：2014-10-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·M·苏尼加 ,  陈志宏 ,  J·古鲁萨米

IPC: H01L21/304

Abstract: 提供一种化学机械抛光系统。所述化学机械抛光系统包含台板、装载罩、枢纽、第一抛光臂以及第二抛光臂，所述第一抛光臂从所述枢纽悬伸，并且绕所述台板与所述装载罩之间的所述枢纽的中心线是可旋转的，所述第二抛光臂从所述枢纽悬伸，并且绕所述台板与所述装载罩之间的所述枢纽的中心线是可旋转的，所述第二臂独立于所述枢纽是可旋转的。

公开(公告)号：CN106471607A

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：CN201580034167.2

申请日：2015-05-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈志宏 ,  J·古鲁萨米 ,  S·M·苏尼加

IPC: H01L21/304

Abstract: 研磨设备包括外壳、耦接至该外壳的柔性底座、以及设置于该柔性底座的第一侧上的接触区域，其中该柔性底座基于该外壳与该柔性底座的第二侧内含有的压力而膨胀和收缩，以于该第一侧形成接触面积，该接触面积小于该柔性底座的表面面积。

公开(公告)号：CN105659362A

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201480057444.7

申请日：2014-09-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈志宏 ,  P·D·巴特菲尔德 ,  张寿松

IPC: H01L21/304

Abstract: 一种抛光模块，所述抛光模块包含：卡盘，所述卡盘具有基板接收表面和周界；以及一个或更多个抛光垫，所述一个或更多个抛光垫绕所述卡盘的所述周界定位，其中所述一个或更多个抛光垫的每一个邻近所述卡盘的所述基板接收表面、以挥扫图案是可以动的，并且所述抛光垫在径向移动上被限制为约小于从所述卡盘的所述周界测量的所述卡盘的半径的二分之一。

公开(公告)号：CN105580115A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201480052565.2

申请日：2014-10-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·M·苏尼加 ,  陈志宏 ,  J·古鲁萨米

IPC: H01L21/304

Abstract: 提供一种化学机械抛光系统。所述化学机械抛光系统包含台板、装载罩、枢纽、第一抛光臂以及第二抛光臂，所述第一抛光臂从所述枢纽悬伸，并且绕所述台板与所述装载罩之间的所述枢纽的中心线是可旋转的，所述第二抛光臂从所述枢纽悬伸，并且绕所述台板与所述装载罩之间的所述枢纽的中心线是可旋转的，所述第二臂独立于所述枢纽是可旋转的。

公开(公告)号：CN105659362B

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201480057444.7

申请日：2014-09-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈志宏 ,  P·D·巴特菲尔德 ,  张寿松

IPC: H01L21/304

Abstract: 一种抛光模块，所述抛光模块包含：卡盘，所述卡盘具有基板接收表面和周界；以及一个或更多个抛光垫，所述一个或更多个抛光垫绕所述卡盘的所述周界定位，其中所述一个或更多个抛光垫的每一个邻近所述卡盘的所述基板接收表面、以挥扫图案是可以动的，并且所述抛光垫在径向移动上被限制为约小于从所述卡盘的所述周界测量的所述卡盘的半径的二分之一。

公开(公告)号：CN2841245Y

公开(公告)日：2006-11-29

申请号：CN200320100093.2

申请日：2003-10-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈志宏 ,  吴玖勋 ,  史蒂文·M·祖尼加 ,  罗伯特·D·托尔斯

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/32

Abstract: 提供了一种用于化学机械抛光的两件式固定环。该固定环由基本上为环形的两个部分构成。一个部分具有凹陷，而另一部分具有突起，当将两个部分装配到一起时，该突起伸入凹陷中。该突起可以具有有着两个向外倾斜的侧壁的横截面。抛光过程中所产生的侧向载荷可由互锁结构承载，因此可以减小粘接剂剥离的风险。另一个潜在的优点是突起和凹陷能够增大两个环在彼此连接的表面处的表面面积，从而可以增强两个环之间的粘接力。特征结构的角度使得在特征结构内可以容易地放入材料，同时该角度仍能够构成互锁特征结构。另外，突起能够足够厚，足以减小破损的风险。如果特征彼此直接接触，则两个环可被加工成使得环之间的粘接层厚度一致。