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公开(公告)号：CN113649944B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202110988643.1
申请日：2017-06-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
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公开(公告)号：CN114173991A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080055434.5
申请日：2020-08-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/00 , B24B37/015 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B55/02
Abstract: 一种化学机械抛光系统，包括：工作台，所述工作台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；冷却剂源；配给器，所述配给器具有悬吊在工作台之上的一个或多个孔，以将冷却剂从冷却剂源引导至抛光垫的抛光表面上；以及控制器，所述控制器耦合至冷却剂源，并且配置成在抛光操作的选定步骤期间，使冷却剂源通过喷嘴将冷却剂传输至抛光表面上。
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公开(公告)号：CN113649944A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202110988643.1
申请日：2017-06-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114206552B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202080056668.1
申请日：2020-08-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B49/14 , B24B57/02
Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：平台，所述平台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；加热流体的源；储藏室，所述储藏室用于保持抛光液体；以及配给器，所述配给器具有悬吊在平台之上的一个或多个孔，以将抛光液体引导至抛光表面上，其中加热流体的源耦合至配给器，并且配置成在抛光液体离开储藏室之后并且在抛光液体被配给至抛光表面上之前将加热流体传输至抛光液体中以加热抛光液体。
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公开(公告)号：CN114206552A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080056668.1
申请日：2020-08-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B49/14 , B24B57/02
Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：平台，所述平台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；加热流体的源；储藏室，所述储藏室用于保持抛光液体；以及配给器，所述配给器具有悬吊在平台之上的一个或多个孔，以将抛光液体引导至抛光表面上，其中加热流体的源耦合至配给器，并且配置成在抛光液体离开储藏室之后并且在抛光液体被配给至抛光表面上之前将加热流体传输至抛光液体中以加热抛光液体。
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公开(公告)号：CN109414801B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201780039337.5
申请日：2017-06-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B57/02 , B24B37/04 , B24B37/20 , B24B37/32 , H01L21/306
Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
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公开(公告)号：CN118927155A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410966129.1
申请日：2020-08-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B49/14 , B24B37/015 , B24B57/02
Abstract: 本申请公开了在配给下通过混合的浆料温度控制。一种化学机械抛光系统包括：平台，所述平台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；加热流体的源；储藏室，所述储藏室用于保持抛光液体；以及配给器，所述配给器具有悬吊在平台之上的一个或多个孔，以将抛光液体引导至抛光表面上，其中加热流体的源耦合至配给器，并且配置成在抛光液体离开储藏室之后并且在抛光液体被配给至抛光表面上之前将加热流体传输至抛光液体中以加热抛光液体。
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公开(公告)号：CN109414801A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780039337.5
申请日：2017-06-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B57/02 , B24B37/04 , B24B37/20 , B24B37/32 , H01L21/306
Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
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