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公开(公告)号：CN113874164B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080038936.7
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/34 , H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。
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公开(公告)号：CN109414801A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780039337.5
申请日：2017-06-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B57/02 , B24B37/04 , B24B37/20 , B24B37/32 , H01L21/306
Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
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公开(公告)号：CN113874164A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038936.7
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/34 , H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。
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公开(公告)号：CN109414801B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201780039337.5
申请日：2017-06-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B57/02 , B24B37/04 , B24B37/20 , B24B37/32 , H01L21/306
Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115996817A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202280005689.X
申请日：2022-05-02
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B53/017
Abstract: 一种化学机械研磨系统包括：平台，用以支撑研磨垫；承载头；电机，用以在平台与承载头之间生成相对运动；蒸汽生成器，包括容器和加热元件，所述容器具有进水口和一个或多个蒸汽出口，且所述加热元件被配置成施加热量至下腔室部分以生成蒸汽；喷嘴，被定向以将蒸汽从蒸汽生成器输送至研磨垫上；水箱，用以固持清洁流体；第一阀，位于容器与喷嘴之间的第一流体管线中，以将容器与喷嘴可控地连接和断开；第二阀，位于容器与水箱之间的第二流体管线中，以将容器与水箱可控地连接和断开，使得来自容器的蒸汽加热水箱中的流体。
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公开(公告)号：CN113874166A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038768.1
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B37/34 , B24B49/14 , B08B3/02
Abstract: 一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当抛光系统中的部件与抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到部件上以清洁部件或使部件的温度上升到升高的温度。将部件移动到与抛光垫接触，这可以在部件返回到环境温度之前发生。
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公开(公告)号：CN113649944A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202110988643.1
申请日：2017-06-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
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公开(公告)号：CN119260582A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411370759.9
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B37/34 , B24B49/14 , B24B55/06 , B24B53/017 , B08B5/02
Abstract: 一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当抛光系统中的部件与抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到部件上以清洁部件或使部件的温度上升到升高的温度。将部件移动到与抛光垫接触，这可以在部件返回到环境温度之前发生。
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公开(公告)号：CN118905909A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411015629.3
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/015 , B24B37/34 , H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。
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