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公开(公告)号：CN113874164B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080038936.7
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/34 , H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。
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公开(公告)号：CN118475432A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202280070706.8
申请日：2022-07-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卓志忠 , A·N·耶尔 , E·A·米克海利琴科 , C·H·李 , 张寿松
Abstract: 示例性浆料输送系统可以包括浆料源。所述系统可以包括与所述浆料源耦合的浆料管道。所述系统可以包括浆料分配喷嘴。所述喷嘴可以包括管腔，所述管腔具有与所述浆料管道的浆料出口流体耦合的入口。所述喷嘴可以包括界定贮存器和出口端口的主体。所述贮存器可以与所述管腔的下游端流体耦合。所述出口端口可以与所述贮存器耦合。所述喷嘴可以包括阀门底座。所述喷嘴可以包括阀门构件，所述阀门构件具有第一表面，当所述阀门构件处于关闭位置时，所述第一表面被定位为抵靠所述阀门底座。所述阀门构件可以移动到开启位置，在所述开启位置下，所述第一表面与所述阀门底座隔开。所述喷嘴可以包括与所述阀门构件的第二表面耦合的致动器。
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公开(公告)号：CN110352115A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201880015033.X
申请日：2018-02-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/04 , H01L21/306 , H01L21/321 , H01L21/3105 , H01L21/304
Abstract: 提供一种方法，该方法使用位置特定研磨模块使当研磨基板的局部区域时基板上校正位置之间的行进距离与时间减至最少，该基板诸如半导体晶片。确定校正分布，且使用根据该校正分布的配方研磨基板。通过使用基板支撑卡盘与支撑臂的组合运动，研磨垫组件在第一校正位置与第二校正位置之间横越，该支撑臂于该支撑臂的第一端耦接至研磨垫组件。卡盘绕该卡盘的中心轴旋转。定位臂可绕垂直轴扫掠，该垂直轴配置成穿过支撑臂的第二端。该卡盘与该支撑臂的组合运动引发该研磨垫组件形成基板上的螺旋形研磨路径。
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公开(公告)号：CN119730989A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202380060850.8
申请日：2023-08-01
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B53/017 , B24B55/06
Abstract: 本公开涉及一种与调节模块一起使用以调节抛光垫的抛光表面的垫表面清洁系统。垫表面清洁系统可用于利用高压流体喷雾来喷涂抛光表面，以从抛光表面松开碎屑。垫表面清洁系统也可用于去除松开的碎屑。进一步地，垫表面清洁系统可以将调节盘与抛光流体隔离，以保护调节盘不与抛光流体发生反应。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114206553A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080056838.6
申请日：2020-08-10
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B57/02 , H01L21/321 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械研磨系统包括：托板，支撑具有研磨表面的研磨垫；导管，具有耦合到气体源的入口；以及，分配器，耦合至导管，并且具有悬挂在托板上方的收敛扩散形喷嘴，以将来自气体源的气体引导到研磨垫的研磨表面上。
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公开(公告)号：CN113874166A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038768.1
申请日：2020-05-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B37/34 , B24B49/14 , B08B3/02
Abstract: 一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当抛光系统中的部件与抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到部件上以清洁部件或使部件的温度上升到升高的温度。将部件移动到与抛光垫接触，这可以在部件返回到环境温度之前发生。
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公开(公告)号：CN118875961A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411174086.X
申请日：2021-06-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B55/02 , B24B37/30 , H01L21/67 , B24B57/02
Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：工作台，用于支撑具有抛光表面的抛光垫；以及垫冷却组件。垫冷却组件具有：在工作台上延伸的臂；由臂悬挂并耦合至冷却剂流体源的喷嘴，所述喷嘴定位成将冷却剂流体从源喷射到抛光垫的抛光表面上；以及在臂中的与喷嘴相邻的开口，以及在臂中的从开口延伸的通道，开口定位成足够靠近喷嘴，使得来自喷嘴的冷却剂流体流从开口夹带空气。
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公开(公告)号：CN115175786B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202180015826.3
申请日：2021-06-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B55/02 , B24B37/30 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：工作台，用于支撑具有抛光表面的抛光垫；以及垫冷却组件。垫冷却组件具有：在工作台上延伸的臂；由臂悬挂并耦合至冷却剂流体源的喷嘴，所述喷嘴定位成将冷却剂流体从源喷射到抛光垫的抛光表面上；以及在臂中的与喷嘴相邻的开口，以及在臂中的从开口延伸的通道，开口定位成足够靠近喷嘴，使得来自喷嘴的冷却剂流体流从开口夹带空气。
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公开(公告)号：CN118525184A
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202280088482.3
申请日：2022-11-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 帕特丽夏·舒尔茨 , 格雷戈里·J·弗里曼 , 迈克尔·库特尼 , 阿伦库马尔·拉马查德拉亚 , 卓志忠 , 祝昭钊 , 奥兹坎·塞利克
IPC: G01B11/06 , G01B11/02 , G01B11/03 , H01L21/66 , H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 一种装置包括：基板固持器；第一致动器，用于旋转该基板固持器；第二致动器，用于线性地移动该基板固持器；第一传感器，用于产生该基板的一个或多个第一测量或影像；第二传感器，用于产生对该基板上的目标位置的一个或多个第二测量；以及处理设备。该处理设备估计该基板在该基板固持器上的位置，并致使该第一致动器使该基板固持器围绕第一轴线旋转。该旋转会由于该基板没有在该基板固持器上居中，导致该第二传感器的视野与该基板上的目标位置之间出现偏移。该处理设备致使该第二致动器使该基板固持器沿着第二轴线线性地移动，以改正该偏移。该处理设备基于对这些目标位置的该一个或多个第二测量，确定横跨该基板的表面的轮廓。
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