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公开(公告)号：CN119730989A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202380060850.8
申请日：2023-08-01
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B53/017 , B24B55/06
Abstract: 本公开涉及一种与调节模块一起使用以调节抛光垫的抛光表面的垫表面清洁系统。垫表面清洁系统可用于利用高压流体喷雾来喷涂抛光表面，以从抛光表面松开碎屑。垫表面清洁系统也可用于去除松开的碎屑。进一步地，垫表面清洁系统可以将调节盘与抛光流体隔离，以保护调节盘不与抛光流体发生反应。
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