公开(公告)号：CN119522151A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202380053214.2

申请日：2023-07-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吴昊晟 ,  张寿松 ,  唐建设 ,  J·P·多明 ,  S·达塔 ,  窟康浩 ,  S·德什潘德 ,  C·波拉德 ,  叶思伶 ,  P·迪普 ,  崔凝卓 ,  B·J·布朗 ,  陈辉

IPC: B24B37/015 ,  B24B49/14 ,  H01L21/67

Abstract: 一种化学机械抛光装置，所述装置具有加热系统、净化气体源、净化液体源、以及控制器。加热系统包括加热气体源、在平台上延伸的臂，以及在所述臂中的具有多个开口的歧管，所述歧管定位在平台上方且与抛光垫分离，以用于将加热气体输送至抛光垫上。控制器被配置为使得加热气体通过歧管和多个开口从加热气体源流动以在抛光操作期间加热抛光垫，并且使得装置执行净化操作，所述净化操作通过歧管和多个开口在从净化气体源流动净化气体与从净化液体源流动净化液体之间交替。