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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113710422B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202080027685.2
申请日：2020-03-04
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种化学机械抛光的方法，包括：围绕旋转轴旋转抛光垫；将基板定位成抵靠在抛光垫上，所述抛光垫具有与旋转轴同心的槽；使基板跨抛光垫横向振荡，使得在第一持续时间内基板的中央部分和基板的边缘部分定位在抛光垫的抛光表面之上；以及使基板基本上横向地保持为固定在一定位置，使得在第二持续时间内基板的中央部分定位在抛光垫的抛光表面之上，并且基板的边缘部分定位在槽之上。
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公开(公告)号：CN114901427A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202080087342.5
申请日：2020-11-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/04 , B24B37/26 , B24B37/30 , H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 化学机械抛光系统包括：压板，用以保持抛光垫；载体头，用以将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；以及控制器。抛光垫具有抛光控制沟槽。载体通过第一致动器而可跨抛光垫横向移动，并且通过第二致动器而可旋转。控制器使载体头的横向振动与载体头的旋转同步，使得在载体头的多个连续振动上，使得当基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕载体头的旋转轴线的方位角位置处时，第一角度幅面覆盖抛光表面，并且当基板的边缘部分的第二角度幅面在方位角位置处时，第二角度幅面覆盖抛光控制沟槽。
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公开(公告)号：CN114901427B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080087342.5
申请日：2020-11-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/04 , B24B37/26 , B24B37/30 , H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 化学机械抛光系统包括：压板，用以保持抛光垫；载体头，用以将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；以及控制器。抛光垫具有抛光控制沟槽。载体通过第一致动器而可跨抛光垫横向移动，并且通过第二致动器而可旋转。控制器使载体头的横向振动与载体头的旋转同步，使得在载体头的多个连续振动上，使得当基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕载体头的旋转轴线的方位角位置处时，第一角度幅面覆盖抛光表面，并且当基板的边缘部分的第二角度幅面在方位角位置处时，第二角度幅面覆盖抛光控制沟槽。
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公开(公告)号：CN119522151A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202380053214.2
申请日：2023-07-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/015 , B24B49/14 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光装置，所述装置具有加热系统、净化气体源、净化液体源、以及控制器。加热系统包括加热气体源、在平台上延伸的臂，以及在所述臂中的具有多个开口的歧管，所述歧管定位在平台上方且与抛光垫分离，以用于将加热气体输送至抛光垫上。控制器被配置为使得加热气体通过歧管和多个开口从加热气体源流动以在抛光操作期间加热抛光垫，并且使得装置执行净化操作，所述净化操作通过歧管和多个开口在从净化气体源流动净化气体与从净化液体源流动净化液体之间交替。
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公开(公告)号：CN113710422A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202080027685.2
申请日：2020-03-04
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种化学机械抛光的方法，包括：围绕旋转轴旋转抛光垫；将基板定位成抵靠在抛光垫上，所述抛光垫具有与旋转轴同心的槽；使基板跨抛光垫横向振荡，使得在第一持续时间内基板的中央部分和基板的边缘部分定位在抛光垫的抛光表面之上；以及使基板基本上横向地保持为固定在一定位置，使得在第二持续时间内基板的中央部分定位在抛光垫的抛光表面之上，并且基板的边缘部分定位在槽之上。
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