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公开(公告)号：CN111836700B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202080001434.7
申请日：2020-02-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种化学机械抛光装置，包括：平台，用以保持抛光垫；载具，用以在抛光工艺期间保持基板抵靠抛光垫的抛光表面；和温度控制系统，所述温度控制系统包括流体介质的源和一个或多个开口，所述一个或多个开口定位在平台之上并与抛光垫分开，且配置用于使流体介质流至抛光垫上，以加热或冷却抛光垫。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111836700A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202080001434.7
申请日：2020-02-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种化学机械抛光装置，包括：平台，用以保持抛光垫；载具，用以在抛光工艺期间保持基板抵靠抛光垫的抛光表面；和温度控制系统，所述温度控制系统包括流体介质的源和一个或多个开口，所述一个或多个开口定位在平台之上并与抛光垫分开，且配置用于使流体介质流至抛光垫上，以加热或冷却抛光垫。
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公开(公告)号：CN103975420B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201280059528.5
申请日：2012-11-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , B24B49/16
Abstract: 本发明提供抛光基板的方法、装置及系统。本发明包括上部平台；耦接至上部平台的扭矩/应变测量仪；以及耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转的下部平台。在其他实施例中，本发明包括上部托架、耦接至上部托架的侧向力测量仪及耦接至侧向力测量仪并适于支撑抛光头的下部托架。本发明揭示多个额外方面。
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公开(公告)号：CN103959446B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201280059506.9
申请日：2012-11-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , B24B49/16
Abstract: 本发明揭示抛光基板的方法、装置及系统。该装置包括上部平台；扭矩/应变测量仪，该扭矩/应变测量仪耦接至上部平台；以及下部平台，该下部平台耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转。在其他实施例中，该装置包括第一托架；耦接至第一托架的侧向力或位移测量仪；及耦接至侧向力或位移测量仪的第二托架，且其中第一托架与第二托架中之一适于支撑抛光头。本发明揭示多个额外方面。
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公开(公告)号：CN103975420A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201280059528.5
申请日：2012-11-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , B24B49/16
Abstract: 本发明提供抛光基板的方法、装置及系统。本发明包括上部平台；耦接至上部平台的扭矩/应变测量仪；以及耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转的下部平台。在其他实施例中，本发明包括上部托架、耦接至上部托架的侧向力测量仪及耦接至侧向力测量仪并适于支撑抛光头的下部托架。本发明揭示多个额外方面。
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公开(公告)号：CN103959446A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280059506.9
申请日：2012-11-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , B24B49/16
Abstract: 本发明揭示抛光基板的方法、装置及系统。该装置包括上部平台；扭矩/应变测量仪，该扭矩/应变测量仪耦接至上部平台；以及下部平台，该下部平台耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转。在其他实施例中，该装置包括第一托架；耦接至第一托架的侧向力或位移测量仪；及耦接至侧向力或位移测量仪的第二托架，且其中第一托架与第二托架中之一适于支撑抛光头。本发明揭示多个额外方面。
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