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公开(公告)号：CN119546419A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202380052712.5
申请日：2023-07-13
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：支撑件，被配置为面朝上固持基板；抛光制品，具有与基板的暴露表面相比较小的抛光表面；端口，用于分配抛光液体；一个或多个致动器，用于使抛光表面与基板的暴露表面的第一部分接触并且产生基板与抛光垫以及光学透射聚合物窗之间的相对运动；原位光学监测系统；以及控制器，被配置为从光学原位监测系统接收信号并且基于信号来修改抛光参数。光学监测系统包括光源和检测器，原位光学监测系统被配置为引导来自支撑件上方的光束以冲击基板的暴露表面的非重叠第二部分。
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公开(公告)号：CN104956467B
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201480006171.3
申请日：2014-01-29
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67046 , B08B1/008 , B08B1/04 , B24B37/107 , B24B37/34 , H01L21/02041 , H01L21/02087 , H01L21/02096 , H01L21/304 , H01L21/463 , H01L21/67051 , H01L21/67219 , H01L21/6838
Abstract: 提供一种在化学机械平坦化(CMP)之后清洗基板的方法及设备。该设备包含壳体；可在第一轴上旋转并被配置以将基板保持在大致垂直的方向的基板固持件；具有垫保持表面的第一垫固持件，该垫保持表面以平行和间隔开的关系面向该基板固持件，该第一垫固持件可在第二轴上旋转，该第二轴平行于该第一轴设置；可被操作来相对于该基板固持件移动该垫固持件的第一致动器，以改变该第一轴和该第二轴之间的距离；以及设置于该壳体中的第二垫固持件，该第二垫固持件具有垫保持表面，该垫保持表面以平行和间隔开的关系面向该基板固持件，该第二垫固持件可在第三轴上旋转，该第三轴平行于该第一轴和该第二轴。
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公开(公告)号：CN102725826A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201180007442.3
申请日：2011-01-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67046 , H01L21/67051
Abstract: 本发明实施例系关于利用圆盘刷清洁基板的设备与方法。一实施例提供基板清洁器，其包括配置于处理空间中的基板夹盘以及配置于处理空间中的刷具组件，其中刷具组件包括与基板夹盘相对且可移动地配置的圆盘刷，且圆盘刷的处理表面接触基板夹盘上基板的表面。
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公开(公告)号：CN102725826B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201180007442.3
申请日：2011-01-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67046 , H01L21/67051
Abstract: 本发明实施例涉及利用圆片刷清洁基板的设备与方法。一实施例提供基板清洁器，基板清洁器包括配置于处理空间中的基板夹盘以及配置于处理空间中的刷具组件，其中刷具组件包括与基板夹盘相对且可移动地配置的圆片刷，且圆片刷的处理表面接触基板夹盘上基板的表面。
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公开(公告)号：CN102893376A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201180007351.X
申请日：2011-05-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/3212 , B24B37/044 , C09G1/04 , H01L21/7684
Abstract: 本文所述实施例关于自基板移除材料。更明确地，本文所述实施例关于经由化学机械研磨处理研磨或平坦化基板。一实施例中，提供基板的化学机械研磨(CMP)方法。方法包括将基板暴露于研磨液，基板上形成有导电材料层，且研磨液包括磷酸、一或更多螯合剂、一或更多腐蚀抑制剂与一或更多氧化剂；在导电材料层上形成钝化层；在基板与研磨垫之间提供相对移动，并移除至少一部分的钝化层以暴露一部分的下方导电材料层；及移除一部分的暴露导电材料层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103975420B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201280059528.5
申请日：2012-11-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , B24B49/16
Abstract: 本发明提供抛光基板的方法、装置及系统。本发明包括上部平台；耦接至上部平台的扭矩/应变测量仪；以及耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转的下部平台。在其他实施例中，本发明包括上部托架、耦接至上部托架的侧向力测量仪及耦接至侧向力测量仪并适于支撑抛光头的下部托架。本发明揭示多个额外方面。
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公开(公告)号：CN103959446B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201280059506.9
申请日：2012-11-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , B24B49/16
Abstract: 本发明揭示抛光基板的方法、装置及系统。该装置包括上部平台；扭矩/应变测量仪，该扭矩/应变测量仪耦接至上部平台；以及下部平台，该下部平台耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转。在其他实施例中，该装置包括第一托架；耦接至第一托架的侧向力或位移测量仪；及耦接至侧向力或位移测量仪的第二托架，且其中第一托架与第二托架中之一适于支撑抛光头。本发明揭示多个额外方面。
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公开(公告)号：CN104956467A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201480006171.3
申请日：2014-01-29
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67046 , B08B1/008 , B08B1/04 , B24B37/107 , B24B37/34 , H01L21/02041 , H01L21/02087 , H01L21/02096 , H01L21/304 , H01L21/463 , H01L21/67051 , H01L21/67219 , H01L21/6838
Abstract: 提供一种在化学机械平坦化(CMP)之后清洗基板的方法及设备。该设备包含壳体；可在第一轴上旋转并被配置以将基板保持在大致垂直的方向的基板固持件；具有垫保持表面的第一垫固持件，该垫保持表面以平行和间隔开的关系面向该基板固持件，该第一垫固持件可在第二轴上旋转，该第二轴平行于该第一轴设置；可被操作来相对于该基板固持件移动该垫固持件的第一致动器，以改变该第一轴和该第二轴之间的距离；以及设置于该壳体中的第二垫固持件，该第二垫固持件具有垫保持表面，该垫保持表面以平行和间隔开的关系面向该基板固持件，该第二垫固持件可在第三轴上旋转，该第三轴平行于该第一轴和该第二轴。
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公开(公告)号：CN103975420A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201280059528.5
申请日：2012-11-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , B24B49/16
Abstract: 本发明提供抛光基板的方法、装置及系统。本发明包括上部平台；耦接至上部平台的扭矩/应变测量仪；以及耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转的下部平台。在其他实施例中，本发明包括上部托架、耦接至上部托架的侧向力测量仪及耦接至侧向力测量仪并适于支撑抛光头的下部托架。本发明揭示多个额外方面。
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公开(公告)号：CN103959446A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280059506.9
申请日：2012-11-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , B24B49/16
Abstract: 本发明揭示抛光基板的方法、装置及系统。该装置包括上部平台；扭矩/应变测量仪，该扭矩/应变测量仪耦接至上部平台；以及下部平台，该下部平台耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转。在其他实施例中，该装置包括第一托架；耦接至第一托架的侧向力或位移测量仪；及耦接至侧向力或位移测量仪的第二托架，且其中第一托架与第二托架中之一适于支撑抛光头。本发明揭示多个额外方面。
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