公开(公告)号：CN102892922A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201080065504.1

申请日：2010-03-17

申请人： 应用材料公司

发明人： 安纳马莱·拉克师马纳 ,  方俊 ,  唐建设 ,  达斯廷·W·霍 ,  福兰斯马尔·斯楚弥特 ,  艾伦·曹 ,  汤姆·周 ,  布赖恩·西-元·施赫 ,  哈里·K·波奈卡恩提 ,  克里斯·埃博斯帕希尔 ,  原铮

IPC分类号： C23C16/44 ,  H01L21/205

CPC分类号： H01L31/1824 ,  C23C16/24 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45514 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45574 ,  C23C16/5096 ,  H01L31/202 ,  Y02E10/545 ,  Y02P70/521

摘要： 本发明提供用于在形成太阳能电池期间沉积非晶和微晶硅膜的装置和方法。在一个实施例中，提供方法和装置以产生氢自由基并将氢自由基直接引导至处理室的处理区域中以与含硅前驱体反应而在衬底上进行膜沉积。在一个实施例中，氢自由基由远程等离子体源产生并被直接引导经过视线路径到达处理区域中，以使得氢自由基在到达处理区域之前的能量损失最小化。