3D封装件结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN111883481B

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202010740046.2

    申请日:2015-11-09

    Abstract: 本发明提供一种方法,包括:在载体衬底上方形成第一管芯封装件,第一管芯封装件包括第一管芯,第一再分布层形成在第一管芯上方并耦接至第一管芯,第一再分布层包括设置在一层或多层介电层中的一层或多层金属层,第二管芯附着于再分布层上方,在第二管芯和第一再分布层上方层压第一介电材料,形成穿过第一介电材料至第二管芯的第一通孔,并且形成穿过第一介电材料至第一再分布层的第二通孔,以及在第一介电材料上方以及在第一通孔和第二通孔上方形成第二再分布层,并且第二再分布层耦接至第一通孔和第二通孔。本发明还提供一种结构。

    3D封装件结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN106328619A

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201510756143.X

    申请日:2015-11-09

    Abstract: 本发明提供一种方法,包括:在载体衬底上方形成第一管芯封装件,第一管芯封装件包括第一管芯,第一再分布层形成在第一管芯上方并耦接至第一管芯,第一再分布层包括设置在一层或多层介电层中的一层或多层金属层,第二管芯附着于再分布层上方,在第二管芯和第一再分布层上方层压第一介电材料,形成穿过第一介电材料至第二管芯的第一通孔,并且形成穿过第一介电材料至第一再分布层的第二通孔,以及在第一介电材料上方以及在第一通孔和第二通孔上方形成第二再分布层,并且第二再分布层耦接至第一通孔和第二通孔。本发明还提供一种结构。

    半导体结构及其形成方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119495571A

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN202411111624.0

    申请日:2024-08-14

    Abstract: 方法包括:在封装组件上沉积第一金属层,其中,封装组件包括第一器件管芯;在封装组件上形成介电层;以及在第一金属层上镀金属热界面材料。介电层包括位于金属热界面材料的相对侧上的部分。散热器接合在金属热界面材料上。散热器包括物理结合至金属热界面材料的第二金属层。本申请的实施例还涉及半导体结构及其形成方法。

    叠层封装结构的制造方法

    公开(公告)号:CN110660682A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201811286453.X

    申请日:2018-10-31

    Abstract: 一种叠层封装结构的制造方法包括以下步骤。在条带载体上提供第一封装,其中所述第一封装包括经包封半导体装置、设置在所述经包封半导体装置上的第一重布线结构及设置在所述第一重布线结构上且贴合到所述条带载体的多个导电凸块。通过多个电端子利用热压合工艺在所述第一封装上安装第二封装,所述热压合工艺使所述导电凸块变形成多个经变形导电凸块。所述经变形导电凸块中的每一者包括对所述第一重布线结构进行连接的基底部分及对所述基底部分进行连接的顶端部分,且所述基底部分的曲率大体上小于所述顶端部分的曲率。

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