用于形成半导体器件的方法和封装件

    公开(公告)号:CN110299326A

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201910145215.5

    申请日:2019-02-27

    Abstract: 在一个实施例中,一种用于形成半导体器件的方法包括:将第一封装组件与第二封装组件对准,第一封装组件具有第一区域和第二区域,该第一区域包括第一导电连接件,该第二区域包括第二导电连接件;在第一封装组件的顶表面的第一部分上执行第一激光照射,第一激光照射使第一区域的第一导电连接件回流,第一封装组件的顶表面的第一部分与第一区域完全重叠;并且在执行第一激光照射之后,在第一封装组件的顶表面的第二部分上执行第二激光照射,第二激光照射回流第二区域的第二导电连接件,第二封装组件的顶表面的第二部分与第二个区域完全重叠。本发明的实施例还提供了另外的用于形成半导体器件的方法以及封装件。

    形成半导体器件的方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115863178A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202210854112.8

    申请日:2022-07-13

    Abstract: 方法包括在封装件上方形成绝缘层。封装件具有随后形成开口的多个位置。在横跨封装件的位置的每个上逐个位置实施第一激光射击。第一激光射击的第一激光光斑与位置的每个重叠。第一激光射击去除绝缘层的位于第一激光光斑下方的第一部分。在横跨封装件的位置的每个上逐个位置实施另一激光射击。另一激光射击的另一激光光斑与位置的每个重叠。另一激光射击去除绝缘层的位于另一激光光斑下方的另一部分。在横跨封装件的位置的每个上逐个位置重复实施另一激光射击多次,直至去除绝缘层的期望部分。本申请的实施例还涉及形成半导体器件的方法。

    掩蔽装置、结合半导体衬底及形成半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN113539846A

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202110800467.4

    申请日:2021-07-15

    Abstract: 一种用于结合半导体衬底的方法包括:将管芯放置在衬底上,以及在管芯及衬底上执行加热工艺,以将相应的第一连接件与相应的第二连接件结合。管芯上的多个第一连接件中的相应的第一连接件接触衬底上的多个第二连接件中的相应的第二连接件。加热工艺包括:在激光产生器与衬底之间放置掩蔽装置,以及执行激光发射。一种掩蔽装置包括掩蔽层及透明层。掩蔽层的部分是不透明的。激光穿过掩蔽层中的第一间隙且穿过透明层,以加热与衬底相对的管芯的顶侧的第一部分。

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