具有TSV结构的多重堆叠器件

    公开(公告)号:CN106992162B

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201710037091.X

    申请日:2017-01-18

    Abstract: 本公开提供一种具有TSV结构的多重堆叠器件。该多重堆叠器件包括:下部器件,具有下基板、在下基板上的第一绝缘层以及在第一绝缘层上的硅通孔(TSV)焊盘;中间器件,具有中间基板、在中间基板上的第二绝缘层以及在第二绝缘层上的第一TSV凸块;上部器件,具有上基板、在上基板上的第三绝缘层以及在第三绝缘层上的第二TSV凸块;以及TSV结构,穿过上基板、第三绝缘层、第二绝缘层以及中间基板以连接到第一TSV凸块、第二TSV凸块和TSV焊盘。在中间基板与TSV结构之间的绝缘的第一TSV间隔物和在上基板与TSV结构之间的绝缘的第二TSV间隔物沿堆叠方向间隔开。

    半导体器件
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109103169A

    公开(公告)日:2018-12-28

    申请号:CN201810632849.9

    申请日:2018-06-19

    Abstract: 一种半导体器件包括:位于第一衬底上的第一绝缘夹层的上部的第一导电图案、垂直地延伸的多个第一导电纳米管(CNT)、位于第二衬底下方的第二绝缘夹层的下部的第二导电图案、以及垂直地延伸的多个第二CNT。第二绝缘夹层的下表面接触第一绝缘夹层的上表面。多个第一CNT中的每一个的侧壁的至少一部分被第一导电图案覆盖,并且多个第二CNT中的每一个的侧壁的至少一部分被第二导电图案覆盖。第一导电图案和第二导电图案垂直地面向彼此,并且多个第一CNT中的至少一个与多个第二CNT中的至少一个彼此接触。

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