包括贯通孔结构的半导体器件
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115132698A

    公开(公告)日:2022-09-30

    申请号:CN202210063164.3

    申请日:2022-01-19

    Abstract: 可以提供一种半导体器件,包括:半导体衬底;集成电路层,在半导体衬底上;第一至第n金属布线层(其中n为正整数),顺序堆叠在半导体衬底和集成电路层上;第一贯通孔结构,沿竖直方向从第一过孔连接金属布线层向半导体衬底延伸并穿过半导体衬底,该第一过孔连接金属布线层是除第一金属布线层之外的第二至第n金属布线层之一;以及第二贯通孔结构,与第一贯通孔结构分开,沿竖直方向从第二过孔连接金属布线层向半导体衬底延伸并穿过半导体衬底,该第二过孔连接金属布线层是除第一金属布线层之外的第二至第n金属布线层之一。

    包括贯通电极的半导体器件和包括该半导体器件的半导体封装

    公开(公告)号:CN115332233A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202210506082.1

    申请日:2022-05-09

    Abstract: 一种半导体器件包括:分别位于衬底的第一表面和第二表面上的正面结构和背面结构;以及贯穿衬底的第一贯通电极和第二贯通电极。正面结构包括电路器件、第一水平处的第一正面导电图案、第二水平处的第二正面导电图案、下绝缘结构、以及第一绝缘结构至第三绝缘结构。背面结构包括位于相同水平的第一背面导电图案和第二背面导电图案。第一贯通电极接触第一背面导电图案和第一正面导电图案。第二贯通电极接触第二背面导电图案和第二正面导电图案。第一正面导电图案贯穿第三绝缘结构的至少一部分和第二绝缘结构。

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