半导体装置
    27.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203103306U

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201220688640.2

    申请日:2012-12-13

    Inventor: 安藤孝由

    CPC classification number: H01L27/0255 H01L27/0617 H01L29/866

    Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。

    半导体器件
    29.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207938601U

    公开(公告)日:2018-10-02

    申请号:CN201820371520.7

    申请日:2018-03-19

    Abstract: 本实用新型提供半导体器件,能提高半导体器件的性能。一实施方式的半导体器件具有导线(12),其在形成于半导体芯片的绝缘膜上的开口部(13H1)处,在一个接合面(SEt1)的多个部位接合。另外,半导体器件具有以与接合面(SEt1)接触的方式封固上述半导体芯片及导线(12)的封固体。接合面(SEt1)具有供导线(12)的接合部(12B1)接合的区域(SER1)、供导线(12)的接合部(12B2)接合的区域(SER2)、以及位于区域(SER1)与区域(SER2)之间的区域(SER3)。区域(SER3)的宽度(WH3)比区域(SER1)的宽度(WH1)及区域(SER2)的宽度(WH2)小。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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