一种LED芯片及其制备方法
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116364830A

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202310352619.8

    申请日:2023-04-04

    Abstract: 本申请提供了一种LED芯片及其制备方法,该LED芯片包括:衬底、外延结构、P电极、N电极以及钝化层,其中,P电极包括第一P电极和第二P电极,N电极包括第一N电极和第二N电极,钝化层与P电极对应的部分同P电极形成了金属‑钝化层‑金属的层叠结构,与N电极对应的部分同N电极形成了金属‑钝化层‑金属的层叠结构,即钝化层与电极结构相对应的部分被电极结构中的顶层金属电极所包覆,使得环境中的水汽不会直接接触到钝化层与第一P电极以及第一N电极的接触面所存在的孔隙,有效避免LED芯片水汽渗透的发生,从而避免LED芯片在逆压环境中发生微短路,提高了LED芯片在实际应用中的可靠性。

    一种LED芯片及其制备方法
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115332413A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202211069531.7

    申请日:2022-09-02

    Abstract: 本发明提供了一种LED芯片及其制备方法,通过将衬底设置具有多个凸起且相邻凸起之间形成平面,从而在所述凸起的表面设置第一透明导电层;通过将衬底的图形界面设置为与衬底不同的透明材料,可形成更佳的反射镜结构;进一步地,所述第一电极与所述第一透明导电层形成电连接,使所述衬底具有导电的图形界面,且所述第一电极与第一透明导电层形成电连接,进而所述发光结构的底部可形成很好的电流扩展。在此基础上,可以减薄所述第一型半导体层,在节省成本的同时又有效提高发光效率。

    倒装LED芯片及其制备方法、LED封装体及显示装置

    公开(公告)号:CN114512592A

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202210144087.4

    申请日:2022-02-17

    Abstract: 本发明提供了一种倒装LED芯片及其制备方法、LED封装体及显示装置,包括绝缘衬底和通过键合工艺倒装固定于所述绝缘衬底表面的发光结构,其中,所述绝缘衬底设有若干个贯穿所述绝缘衬底且相互独立的金属填充孔,第一电极和第二电极通过键合工艺分别与所述绝缘衬底的金属填充物键合形成一体;也即通过金属填充孔型绝缘衬底的使用,可以实现第一电极和第二电极在键合过程中无需对准,减少了外延层的损失,藉以提升芯片亮度;同时,在封装过程中无需对电极进行打线,可以实现高可靠性无金线封装的LED显示装置。

    一种LED芯片及其制作方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114242867A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202111533881.X

    申请日:2021-12-15

    Abstract: 本申请实施例公开了一种LED芯片及其制作方法,该LED芯片包括:芯片衬底、外延结构、P型电极、N型电极以及绝缘层,外延结构包括第一P型层、第一有源层、第一N型层,第一N型层包括第一子N型层和第二子N型层,有源层、第一子N型层裸露P型层部分表面,第二子N型层位于第一N子型层表面,N型电极位于第二子N型层背离芯片衬底表面的一侧,并覆盖第二子N型层,绝缘层覆盖LED芯片表面除去P型电极表面和N型电极表面的部分。由上述可知,N型电极覆盖第二子N型层,能够避免所述第二子N型层裸露,并且绝缘层包裹第一子N型层以及第二子N型层没有被覆盖的部分,能够抑制N型层与环境中的水汽发生电化学反应。

    一种垂直结构LED芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN114005920A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202111422016.8

    申请日:2021-11-26

    Abstract: 本发明提供了一种垂直结构LED芯片及其制作方法,通过在基板表面依次设置键合层、金属反射镜、介质层以及外延叠层,其中,所述介质层具有介质孔,且所述金属反射镜通过填充于所述介质孔内的欧姆接触结构与所述外延叠层形成连接;一方面,使欧姆接触结构通过所述介质孔与第二型半导体层电性连接,保证电流的注入和导通;同时,解决了外延叠层与介质层、金属反射镜之间结合力弱的问题,从而提高芯片的可靠性。另一方面,使金属反射镜与介质层形成ODR反射结构,将外延叠层朝向基板一侧辐射的光线返回至外延叠层,并从出光侧辐射出去,提高出光效率。

    一种复合膜层、光刻方法及系统、LED芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN118033979A

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202410357080.X

    申请日:2024-03-27

    Abstract: 本发明提供一种复合膜层、光刻方法及系统、LED芯片及其制造方法,本发明的复合膜层通过在光刻胶层内部或者至少一侧表面设置图形化的波长转换部,用第一光源照射波长转换部后,波长转换部激发形成比第一光源波长更短的第二光源对光刻胶层进行图案化曝光,不仅在曝光光刻胶层时可以免去掩模版的使用,而且波长转换部吸收第一光源激发出波长更短的第二光源曝光光刻胶层,能够提高光刻精度。光刻方法及系统采用上述的复合膜层实现光刻胶层的图案化。LED芯片及其制造方法采用上述光刻系统实现光刻胶层的图案化。

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