一种红光Mini LED外延结构、芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN117174806A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202310989435.2

    申请日:2023-08-08

    Abstract: 本发明提供一种红光Mini LED外延结构、芯片及其制作方法,其中Mini LED外延结构包括:堆叠结构,堆叠结构包括依次层叠的第一型半导体层、第一界面层、第一波导层、有源区、第二波导层、第二界面层及第二型半导体层,其中,第一界面层可避免第一型半导体层的掺杂剂扩散导致第一型限制层及第一波导层界面粗化;第二界面层可避免第二型半导体层的掺杂剂扩散导致第二型限制层及第二波导层界面粗化;同时还可避免第一型半导体层和第二型半导体层的掺杂剂扩散至有源区形成非辐射复合中心,导致可靠性降低的问题;且,第一界面、第一波导层、第二波导层及第二界面层皆包括无掺杂的半导体材料层,可有效提升有源区的晶体质量,进而提高内量子效率及光输出功率。

    一种LED外延结构
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116632127A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310538780.4

    申请日:2023-05-15

    Abstract: 本发明提供了一种LED外延结构,所述N型半导体层至少包括三个N型半导体子层,且至少两个所述N型半导体子层的N型N型掺杂浓度不一致。进一步地,在所述N型半导体层中,靠近所述衬底一侧的N型半导体子层为N型半导体底层,靠近所述有源层一侧的N型半导体子层为N型半导体顶层,其余的N型半导体子层为N型半导体中间层;则,至少一N型半导体中间层的N型掺杂浓度低于所述N型半导体底层和/或N型半导体顶层的N型掺杂浓度。使得所述N型半导体层的N型N型掺杂浓度呈高低高的阶梯式分布结构,该结构能够对高压静电起到缓冲的作用,降低了高压静电的破坏力,提升ESD性能,同时避免因有源层的N型掺杂降低而影响ESD性能。

    一种LED芯片及其制备方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115332413A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202211069531.7

    申请日:2022-09-02

    Abstract: 本发明提供了一种LED芯片及其制备方法,通过将衬底设置具有多个凸起且相邻凸起之间形成平面,从而在所述凸起的表面设置第一透明导电层;通过将衬底的图形界面设置为与衬底不同的透明材料,可形成更佳的反射镜结构;进一步地,所述第一电极与所述第一透明导电层形成电连接,使所述衬底具有导电的图形界面,且所述第一电极与第一透明导电层形成电连接,进而所述发光结构的底部可形成很好的电流扩展。在此基础上,可以减薄所述第一型半导体层,在节省成本的同时又有效提高发光效率。

    一种垂直结构LED芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN114005920A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202111422016.8

    申请日:2021-11-26

    Abstract: 本发明提供了一种垂直结构LED芯片及其制作方法,通过在基板表面依次设置键合层、金属反射镜、介质层以及外延叠层,其中,所述介质层具有介质孔,且所述金属反射镜通过填充于所述介质孔内的欧姆接触结构与所述外延叠层形成连接;一方面,使欧姆接触结构通过所述介质孔与第二型半导体层电性连接,保证电流的注入和导通;同时,解决了外延叠层与介质层、金属反射镜之间结合力弱的问题,从而提高芯片的可靠性。另一方面,使金属反射镜与介质层形成ODR反射结构,将外延叠层朝向基板一侧辐射的光线返回至外延叠层,并从出光侧辐射出去,提高出光效率。

    一种基于垂直结构LED芯粒应用的单/双面显示装置

    公开(公告)号:CN113724616A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202111025894.6

    申请日:2021-09-02

    Abstract: 本发明提供了一种基于垂直结构LED芯粒应用的单/双面显示装置,包括导电面板及分别设置于所述导电面板上、下表面的第一LED阵列和第二LED阵列;通过共用所述导电面板将垂直结构LED芯粒分别键合至所述导电面板的上、下表面,并通过导电面板实现两组LED阵列的串联,可减少电极引线数量,使得LED芯粒的间距做得更小,从而可在受限的面板上集成更多的LED芯粒,最终得以提高显示装置的分辨率。且,可灵活控制第一LED阵列和第二LED阵列所对应的电信号及导电面板的控制信号,通过不同的控制方式实现双面同步显示或双面异步显示或单面显示的显示效果。

    一种大尺寸LED芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN112652686A

    公开(公告)日:2021-04-13

    申请号:CN202110001890.8

    申请日:2021-01-04

    Abstract: 本发明提供了一种大尺寸LED芯片及其制作方法,通过在所述外延叠层背离所述衬底的一侧表面设置隧穿结与若干个电流扩展复合层,其中,所述电流扩展复合层层叠于所述隧穿结背离所述外延叠层的一侧表面,且各所述电流扩展复合层包括沿第一方向依次堆叠的第二N型半导体层和欧姆接触层;所述电流扩展复合层具有第一通孔,所述第一通孔从顶层的欧姆接触层贯穿至部分所述第一N型半导体层,且裸露所述第一N型半导体层的部分表面;使所述P型半导体层与最底层的第二N型半导体层之间形成隧穿效应。从而实现通过外延材料层(即N型半导体层)替代传统结构的透明导电层,在保证其电流扩展效果的同时,可较好地实现稳定可靠的芯片结构。

    一种垂直高压发光二极管芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN111564543B

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN202010396450.2

    申请日:2020-05-12

    Abstract: 本发明提供了一种垂直高压发光二极管芯片及其制作方法,通过垂直高压发光二极管芯片的设计,将第一芯片区处的子背面电极开孔并通过键合层与导电基板电连接,避免了水平电极结构中电极的遮光问题,进而保证了发光二极管芯片的有效发光面积较大;由于该高压发光二极管呈成垂直结构,使得高压发光二极管芯片的电流扩展较好,可避免电流的横向拥堵问题,从而提高电流耐受能力;此外,所述第k连接电极通过所述凸起台面连接第k芯片区的第一类型导电层和与第k+1芯片区接触的子背面电极,可增大金属与第一型半导体层的接触面积,从而降低接触电阻,同时可增大电流注入的面积,进一步地降低了高压发光二极管芯片的工作电压。

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