半导体装置的制造方法及半导体装置

    公开(公告)号:CN106531639A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201610236042.4

    申请日:2016-04-15

    Abstract: 本发明的实施方式提供一种在外观检查步骤中容易发现不良的半导体装置的制造方法及半导体装置。实施方式的半导体装置的制造方法包括将半导体芯片搭载于衬底的第1面上,所述衬底具有第1面、位于该第1面的相反侧的第2面及侧面,所述侧面位于所述第1面与所述第2面之间。在半导体芯片上形成树脂部,所述树脂部将半导体芯片的第1面密封。在树脂部的上表面上及树脂部的侧面上,形成导电性膜,所述导电性膜电连接于接地电位源。在含氧或氮的环境中,使金属在导电性膜上成膜,由此在导电性膜上形成金属氧化膜或金属氮化膜。

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