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公开(公告)号：CN115152009A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016910.7
申请日：2021-01-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 潘尧令 , P·J·唐 , L·泰德斯奇 , J·孙 , P·A·克劳斯 , 李晓璞 , K·贝拉 , M·D·威尔沃斯 , 阿尔伯特三世·B·希克斯 , L·J·恩曼 , M·J·萨利 , D·T·麦克科米克
Abstract: 本文中公开的实施例包括一种传感器。在一实施例中，传感器包括：基板，所述基板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。在一实施例中，传感器进一步包括：第一电极，所述第一电极在所述基板的所述第一表面之上；以及第二电极，所述第二电极在所述基板的所述第一表面之上且相邻于所述第一电极。在一实施例中，传感器进一步包括：阻挡层，所述阻挡层在所述第一电极和所述第二电极之上。
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公开(公告)号：CN113363189B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202110723961.5
申请日：2016-01-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , C23C16/458 , H01J37/32
Abstract: 描述一种气流，用于减少基板处理夹盘的冷凝。在一示例中，该腔室中的工件支架具有定位盘、上板、冷却板、底板、以及该底板的干燥气体入口，该定位盘用于携载该工件以进行制造处理，该上板热耦接至该定位盘，该冷却板紧固至并热耦接至该上板，该冷却板具有冷却通道以携载热传递流体从而传递来自该冷却板的热，该底板与该定位盘相对地紧固至该冷却板，而该底板的干燥气体入口用以在压力下供应干燥气体至该底板与该冷却板之间的空间从而驱动来自该底板与该冷却板之间的环境空气。
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公开(公告)号：CN117941050A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202280062291.X
申请日：2022-08-15
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种用于处理基板的装置可包括气体分配板，所述气体分配板包括上部板和下部板以及在上部板和下部板之间的实心盘。上部板和下部板中的每一者具有中心区域和围绕中心区域的外部区域，中心区域是实心的并且外部区域具有多个通孔。上部板和下部板沿着中心轴同轴地对准，中心轴延伸穿过上部板的中心区域的中心和下部板的中心区域的中心。实心盘与上部板和下部板同轴地对准。实心盘配置成阻隔紫外线辐射透射通过实心盘。
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公开(公告)号：CN116249949A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202280006233.5
申请日：2022-01-04
Applicant: 应用材料公司
IPC: G05D7/06
Abstract: 提供一种气体分配设备，具有第一储存器和第二储存器，所述第一储存器具有第一上游端和第一下游端，所述第二储存器具有第二上游端和第二下游端。储存器切换阀与第一储存器的第一下游端和第二储存器的第二下游端流体连通。储存器切换阀可操作以选择性地在处于第一状态时将第一储存器耦合至储存器切换阀的出口，并且在处于第二状态时将第二储存器耦合至储存器切换阀的出口。提供多个比例流量控制阀，所述多个比例流量控制阀具有入口，所述入口并联耦合至储存器切换阀的出口。多个比例流量控制阀具有被配置成将气体提供至处理腔室的出口。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104205321B
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201380016503.1
申请日：2013-03-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , H05B3/20 , B23Q3/15
CPC classification number: H02N13/00 , B23B31/28 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/6831 , H01L21/68792
Abstract: 本发明的实施例提供用于在升高的温度下操作的静电夹具。本发明的一个实施例提供用于静电夹具的介电夹具体。介电夹具体包括基板支撑板、电极及轴，该基板支撑板具有用于接收基板的顶表面及与顶表面相对的背表面，该电极嵌入基板支撑板中，该轴具有第一端及与该第一端相对的第二端，该第一端附接于基板支撑板的背表面。第二端经设置以接触冷却底座及提供温度控制至基板支撑板。轴为中空的，具有包围中心开口的侧壁及两个或两个以上通路，该两个或两个以上通路穿过侧壁形成且自第一端延伸至第二端。
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公开(公告)号：CN105074869A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480018535.X
申请日：2014-04-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/205
Abstract: 本新型的实施例提供了单环，所述单环包括具有内部表面的圆环状的主体，所述内部表面最接近所述主体的中心线附近；所述主体亦包括相对于所述内部表面的外部表面。所述主体具有底表面及顶表面，所述底表面具有形成于其中的凹槽，所述顶表面具有相邻于所述外部表面的外部端点及相邻于斜坡的内部端点，所述斜坡朝向所述中心线往下延伸至所述内部表面上的台阶。所述主体具有设置于所述内部表面上的唇部，所述内部表面从所述台阶下的垂直面向外延伸朝向所述主体的所述中心线，且所述唇部是经配置以支撑其上的衬底。所述主体的尺寸设定使得小于大约2mm的缝隙形成于所述衬底与所述台阶的所述垂直面的间的所述唇部上。
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公开(公告)号：CN119811974A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411937510.1
申请日：2019-09-20
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开的实施例总体上提供用于处理基板的设备和方法。更具体地，本公开的实施例提供一种处理腔室，所述处理腔室对设置在处理腔室中的基板的边缘具有增强的处理效率。在一个实施例中，处理腔室包含：腔室主体，所述腔室主体在处理腔室中界定内部处理区域；设置在处理腔室中的喷头组件，其中喷头组件具有多个区，其中在喷头组件的边缘区处的孔隙密度比在喷头组件的中心区处的孔隙密度更高；设置在处理腔室的内部处理区域中的基板支撑组件；以及设置在基板支撑组件的边缘上并且围绕基板支撑组件的集中环，其中集中环具有台阶，所述台阶具有基本上类似于底部宽度的侧壁高度。
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公开(公告)号：CN115176328A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202180016547.9
申请日：2021-01-15
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了用于等离子体腔室条件监测的电容传感器和电容感测数据集成。在示例中，等离子体腔室监测系统包括：多个电容传感器；电容数字转换器；以及应用处理服务器，所述应用处理服务器耦合至所述电容数字转换器，所述应用处理服务器包括系统软件。所述电容数字转换器包括：绝缘接口，所述绝缘接口耦合至所述多个电容传感器；电源，所述电源耦合至所述绝缘接口；现场可编程门阵列固件，所述现场可编程门阵列固件耦合至所述绝缘接口；以及专用集成电路，所述专用集成电路耦合至所述现场可编程门阵列固件。
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公开(公告)号：CN113597659A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202080021717.8
申请日：2020-01-31
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 潘尧令 , P·J·唐 , M·D·威尔沃斯 , L·M·泰德斯奇 , D·S·卞 , P·A·克劳斯 , P·A·克里米诺儿 , C·李 , R·丁德萨 , A·施密特 , D·M·库萨
IPC: H01J37/32
Abstract: 本公开内容总体上涉及一种用于确定与在等离子体处理腔室内的蚀刻中使用的环组件的腐蚀有关的度量的方法和设备。在一个示例中，设备被配置为获取指示在等离子体处理腔室中设置在基板支撑组件上的边缘环上的腐蚀的度量。传感器获取边缘环的度量。度量与边缘环中的腐蚀量相关。在另一示例中，环传感器可布置在基板支撑组件的外周的外部。度量可由环传感器通过等离子体屏来获取。
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