公开(公告)号：CN114175231A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202080054037.6

申请日：2020-07-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： C·李 ,  M·D·威尔沃斯 ,  J·路德维格

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 本文提供用于在处理腔室中使用的基板支撑件的实施例。在一些实施例中，基板支撑件包括基座，所述基座具有配置成容纳升降杆的上部表面，接近基座的边缘的第一环状区域，以及布置于第一环状区域与基座的中心之间的第二环状区域，其中基座包括从上部表面沿着第一环状区域以规律间隔延伸的第一多个孔洞，以及从上部表面沿着第二环状区域以规律间隔延伸的第二多个孔洞；以及非金属球，所述非金属球包含氧化铝，所述非金属球布置于第一多个孔洞和第二多个孔洞中的每个孔洞中，其中非金属球中的每一者的上部表面相对于基座的上部表面抬升以限定支撑表面。

公开(公告)号：CN116249949A

公开(公告)日：2023-06-09

申请号：CN202280006233.5

申请日：2022-01-04

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·徐 ,  A·M·冈田 ,  M·D·威尔沃斯 ,  D·D·巴克乌斯 ,  J·路德维格 ,  A·米森 ,  B·施瓦茨

IPC: G05D7/06

Abstract: 提供一种气体分配设备，具有第一储存器和第二储存器，所述第一储存器具有第一上游端和第一下游端，所述第二储存器具有第二上游端和第二下游端。储存器切换阀与第一储存器的第一下游端和第二储存器的第二下游端流体连通。储存器切换阀可操作以选择性地在处于第一状态时将第一储存器耦合至储存器切换阀的出口，并且在处于第二状态时将第二储存器耦合至储存器切换阀的出口。提供多个比例流量控制阀，所述多个比例流量控制阀具有入口，所述入口并联耦合至储存器切换阀的出口。多个比例流量控制阀具有被配置成将气体提供至处理腔室的出口。

公开(公告)号：CN112740389A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN201980062458.0

申请日：2019-09-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·D·威尔沃斯 ,  J·路德维格 ,  B·施瓦茨 ,  R·C·科特里尔

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 本文所述的实现提供一种腔室盖组件。在一个实施例中，腔室盖组件包含嵌入在形成处理腔室的边界的介电主体中的加热器，其中所述加热器具有被独立地控制的一个或更多个加热区。

公开(公告)号：CN108807125A

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201810410921.3

申请日：2018-05-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 王海涛 ,  A·侯塞因 ,  K·拉马斯瓦米 ,  J·A·肯尼 ,  J·路德维格 ,  张纯磊 ,  W·李

IPC: H01J37/32

Abstract: 本公开涉及处理腔室和递归分配连接器。本公开总体涉及用于控制在基板边缘附近的等离子体鞘的方法和设备。所述设备包括可邻近静电卡盘定位的辅助电极。使用长度相等且阻抗相等的馈电线从电源递归地对辅助电极馈电。辅助电极是能够竖直地致动的，并且可相对于接地或负责等离子体产生的其他频率进行调谐。还提供了使用该设备的方法。

公开(公告)号：CN209266350U

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201820642742.8

申请日：2018-05-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 王海涛 ,  A·侯塞因 ,  K·拉马斯瓦米 ,  J·A·肯尼 ,  J·路德维格 ,  张纯磊 ,  W·李

IPC: H01J37/32

Abstract: 本公开涉及处理腔室。该处理腔室包括：腔室主体；基板支撑件，设置在所述腔室主体内，所述基板支撑件包括静电卡盘；递归分配组件，设置在所述基板支撑件内，所述递归分配组件包括具有相等长度的多个分叉电连接；边缘环组件，设置在所述基板支撑件内并耦接到所述递归分配组件，所述边缘环组件包括导电电极，所述导电电极与所述递归分配组件电接触；绝缘支撑件，定位在所述基板支撑件上，位于所述电极上方；以及第一硅环，设置在所述绝缘支撑件上。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利