公开(公告)号：CN116250072A

公开(公告)日：2023-06-09

申请号：CN202180060480.9

申请日：2021-11-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： B·施瓦茨 ,  M·D·威尔沃斯 ,  A·米森 ,  P·库马尔 ,  G·马修 ,  A·施密特

IPC: H01L21/687

Abstract: 本发明实施例提供一种用于处理基板的方法和设备。所述设备具有环组件。环组件具有边缘环和遮蔽环。边缘环具有环形主体。边缘环主体具有顶表面和底表面。销孔从顶表面延伸穿过边缘环主体到底表面。遮蔽环具有环形主体。遮蔽环主体具有上表面和下表面。孔座形成在所述下表面上，其中所述遮蔽环主体中的所述孔座与所述边缘环主体中的所述销孔对准。

公开(公告)号：CN116249949A

公开(公告)日：2023-06-09

申请号：CN202280006233.5

申请日：2022-01-04

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·徐 ,  A·M·冈田 ,  M·D·威尔沃斯 ,  D·D·巴克乌斯 ,  J·路德维格 ,  A·米森 ,  B·施瓦茨

IPC: G05D7/06

Abstract: 提供一种气体分配设备，具有第一储存器和第二储存器，所述第一储存器具有第一上游端和第一下游端，所述第二储存器具有第二上游端和第二下游端。储存器切换阀与第一储存器的第一下游端和第二储存器的第二下游端流体连通。储存器切换阀可操作以选择性地在处于第一状态时将第一储存器耦合至储存器切换阀的出口，并且在处于第二状态时将第二储存器耦合至储存器切换阀的出口。提供多个比例流量控制阀，所述多个比例流量控制阀具有入口，所述入口并联耦合至储存器切换阀的出口。多个比例流量控制阀具有被配置成将气体提供至处理腔室的出口。