-
公开(公告)号：CN1768305B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200480008654.3
申请日：2004-03-24
Applicant: 东京応化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/2041 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/115
Abstract: 本发明涉及含有(A)含有碱可溶性结构单元(a1)，并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元(a1)含有同时具有(i)氟原子或氟代烷基和(ii)醇羟基的脂环基，以及(B)通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图形形成方法。由此不仅能实现高分辨率和焦点深度，还可回避浸渍液的不良影响。
-
公开(公告)号：CN100505124C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200410089821.3
申请日：2004-11-01
Applicant: 学校法人早稻田大学 , 冲电气工业株式会社 , 东京応化工业株式会社
IPC: H01G4/33 , H01G4/06 , H01L21/822 , H01L27/04
CPC classification number: H01G4/33 , H01G4/008 , H01G4/1227 , H01G13/006 , H05K1/162 , H05K3/388 , H05K2201/0175 , H05K2201/0179 , H05K2203/016 , Y10T29/42 , Y10T29/43 , Y10T29/435 , Y10T29/49147 , Y10T29/49155 , Y10T29/49165 , Y10T29/49169
Abstract: 本发明提供不损害高密度组装衬底的电特性和尺寸特性，可内置在衬底内、并且具有充分的电容的薄膜电容器、薄膜电容器内置型高密度组装衬底、以及薄膜电容器的制造方法。制造下述结构的薄膜电容器，作为半导体布线板的内置用无源部件使用：至少具有高介电层和从上下夹住它的上部电极层和下部电极层而构成，上述上部和下部电极层的触点部引出到上述上部电极之上，上述高介电层的膜厚为200nm-50nm。
-
公开(公告)号：CN100477058C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200480001457.9
申请日：2004-05-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 本发明提供用于生产等离子体显示器件前板的未焙烤的层板，以及生产该前板的方法。该层板包括可燃中间层，并且可包括未焙烧的介电层和光敏的未焙烧的阻隔材料层。该可燃中间层位于介电层和阻隔材料层之间，且能够在焙烤处理中燃烧，从而可以去除残留在经过去除显影的区域中的阻隔材料层残留物。
-
公开(公告)号：CN100474550C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200410082279.9
申请日：2004-12-01
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/68 , H01L21/304 , B24B37/04
CPC classification number: H01L21/6835 , H01L21/6836 , H01L21/78 , H01L2221/68318 , H01L2221/68327 , H01L2221/6834 , Y10T428/28
Abstract: 本发明的课题在于提供：在对半导体晶片等基板薄板化时，难以产生基板的裂纹或缺口的基板粘附方法。解决课题的方法为：在半导体晶片W的电路(元件)形成面涂敷粘合剂液，预干燥该粘合剂液以降低流动性，可以维持粘合剂层1的形状。使用烤箱预干燥例如在80℃下加热5分钟。粘合剂层1的厚度由在半导体晶片W的表面形成的电路的凹凸来决定。然后，在形成规定厚度的粘合剂层1的半导体晶片W上粘附支承板2。
-
公开(公告)号：CN100446189C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN01137231.1
申请日：2001-09-05
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B08B3/08
Abstract: 提供一种能够使洗涤液合当而且不浪费的充分使用的供给系统。在第一洗涤位置使用的洗涤液通过送给管12送至使用过的液贮存罐2中。而且，使用过的液贮存罐2的使用过的洗涤液通过供给管21送至第二洗涤位置，供基板边缘部洗涤或杯内洗涤。此外，在第二洗涤位置使用的洗涤液则通过返回管30及分支配管32回收至使用过的液贮存罐3中。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100412486C
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200410055261.X
申请日：2004-06-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: F26B13/20
Abstract: 本发明提供一种由基板表面的雾气变成的飞散量极少的干燥装置。在输送到输送滚子(2)上的基板(W)的上面附着的液体通过来自上部气刀(11)的空气被压入基板上面和上部整流板(10)之间的间隙中，被压入的液体通过在基板上面和上部整流板(10)之间形成的向上游侧的气流和来自上部气刀(11)的空气沿着基板上面向在上游侧且倾斜配置的上部整流板(10)一侧压出，最后从基板(W)上面流向上部排气装置(6)，并排放到干燥装置外部。
-
公开(公告)号：CN1849556A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200480026050.1
申请日：2004-09-01
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 一种凸版印刷原版，包括基材、在其上对紫外线辐射有光敏性的光敏树脂层以及在其上兼具紫外线和非紫外线吸收性的掩模层，紫外线吸收性随着接收非紫外线辐射而失活。也提供一种通过使用该原版生产凸版印刷版的方法。
-
公开(公告)号：CN1757096A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200480005910.3
申请日：2004-03-04
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/20
Abstract: 一种浸渍液，是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液，由对曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70－270℃的含氟类液体构成；以及一种抗蚀剂图案形成方法，包括将上述浸渍液直接配置在抗蚀剂膜或保护膜上的工序。可同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜等膜的变质及使用液体的变质，形成采用液浸曝光的高分辨力抗蚀剂图案。
-
公开(公告)号：CN1754629A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510097673.4
申请日：2005-08-31
Applicant: 东京応化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 提供一种基板载置台，能够不夹有气体地水平固定玻璃基板等，并且容易剥离。基板载置台(1)分成多个俯视时成同心状的区域(1a、1b、1c、1d、1e)，形成在最中心部区域(1a)上的吸引兼喷射孔(2)的密度比外侧区域(1b～1e)的密度要高，吸引兼喷射用喷嘴(4)插入上述各孔(2)中，该喷嘴(4)在基板载置台(1)的背面一侧与配管相连接。各配管经由未图示的切换阀有选择地连接在真空泵或气体管线上。本发明中按照各区域配置配管，能够按照各区域控制吸引或者喷射。
-
公开(公告)号：CN1714944A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN200510081041.9
申请日：2005-06-28
Applicant: 东京応化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够有效地防止涂敷液的飞散的旋转杯式涂敷装置。在内杯体(3)上固定有托盘(7)，从该托盘(7)的各角部导出有排液引导管(10)。排液引导管(10)以前部(11)朝向前述排液回收通路(3a)的底部的方式朝外侧向斜下方倾斜。并且，前部(11)的下端(11a)比内杯体(3)的底面(3b)低。因此，当供给到板状被处理物(W)的表面上的涂敷液通过托盘(7)与内杯体(3)的一体旋转而在离心力的作用下通过形成于遮檐状壁部(9)上的孔、排液引导管(10)内的流路以及排液引导管(10)的前部(11)被排出时，不会直接冲撞到内杯体3的内周壁上。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
92
records
(took 0.023 seconds)
