-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1751272A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200480004780.1
申请日：2004-02-20
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种设置在抗蚀膜上的液浸曝光工序用抗蚀保护膜形成用材料、由上述材料形成的保护膜及具有抗蚀膜的复合膜、及使用上述膜的抗蚀图案形成方法，上述材料具有下述特性：对曝光光线透明，实质上不溶于液浸曝光用的液体，且在上述抗蚀膜之间不发生混合，由此能够同时防止液浸曝光中的抗蚀膜的变质及使用液体的变质，使用液浸曝光形成高清晰度的抗蚀图案。
-
公开(公告)号：CN100440431C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200480005910.3
申请日：2004-03-04
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/20
Abstract: 一种浸渍液，是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液，由对曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70-270℃的含氟类液体构成；以及一种抗蚀剂图案形成方法，包括将上述浸渍液直接配置在抗蚀剂膜或保护膜上的工序。可同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜等膜的变质及使用液体的变质，形成采用液浸曝光的高分辨力抗蚀剂图案。
-
公开(公告)号：CN1768305A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200480008654.3
申请日：2004-03-24
Applicant: 东京応化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/2041 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/115
Abstract: 本发明涉及含有(A)含有碱可溶性结构单元(a1)，并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元(a1)含有同时具有(i)氟原子或氟代烷基和(ii)醇羟基的脂环基，以及(B)通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图形形成方法。由此不仅能实现高分辨率和焦点深度，还可回避浸渍液的不良影响。
-
公开(公告)号：CN1768305B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200480008654.3
申请日：2004-03-24
Applicant: 东京応化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/2041 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/115
Abstract: 本发明涉及含有(A)含有碱可溶性结构单元(a1)，并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元(a1)含有同时具有(i)氟原子或氟代烷基和(ii)醇羟基的脂环基，以及(B)通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图形形成方法。由此不仅能实现高分辨率和焦点深度，还可回避浸渍液的不良影响。
-
公开(公告)号：CN1757096A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200480005910.3
申请日：2004-03-04
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/20
Abstract: 一种浸渍液，是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液，由对曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70－270℃的含氟类液体构成；以及一种抗蚀剂图案形成方法，包括将上述浸渍液直接配置在抗蚀剂膜或保护膜上的工序。可同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜等膜的变质及使用液体的变质，形成采用液浸曝光的高分辨力抗蚀剂图案。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.017 seconds)
