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公开(公告)号：CN1751272A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200480004780.1
申请日：2004-02-20
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种设置在抗蚀膜上的液浸曝光工序用抗蚀保护膜形成用材料、由上述材料形成的保护膜及具有抗蚀膜的复合膜、及使用上述膜的抗蚀图案形成方法，上述材料具有下述特性：对曝光光线透明，实质上不溶于液浸曝光用的液体，且在上述抗蚀膜之间不发生混合，由此能够同时防止液浸曝光中的抗蚀膜的变质及使用液体的变质，使用液浸曝光形成高清晰度的抗蚀图案。
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