公开(公告)号：CN1768305B

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN200480008654.3

申请日：2004-03-24

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 远藤浩太朗 ,  吉田正昭 ,  平山拓 ,  辻裕光 ,  绪方寿幸 ,  佐藤充

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0395 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/115

Abstract: 本发明涉及含有(A)含有碱可溶性结构单元(a1)，并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元(a1)含有同时具有(i)氟原子或氟代烷基和(ii)醇羟基的脂环基，以及(B)通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图形形成方法。由此不仅能实现高分辨率和焦点深度，还可回避浸渍液的不良影响。

公开(公告)号：CN1768305A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200480008654.3

申请日：2004-03-24

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 远藤浩太朗 ,  吉田正昭 ,  平山拓 ,  辻裕光 ,  绪方寿幸 ,  佐藤充

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0395 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/115

Abstract: 本发明涉及含有(A)含有碱可溶性结构单元(a1)，并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元(a1)含有同时具有(i)氟原子或氟代烷基和(ii)醇羟基的脂环基，以及(B)通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图形形成方法。由此不仅能实现高分辨率和焦点深度，还可回避浸渍液的不良影响。