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公开(公告)号：CN1714944A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN200510081041.9
申请日：2005-06-28
Applicant: 东京応化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够有效地防止涂敷液的飞散的旋转杯式涂敷装置。在内杯体(3)上固定有托盘(7)，从该托盘(7)的各角部导出有排液引导管(10)。排液引导管(10)以前部(11)朝向前述排液回收通路(3a)的底部的方式朝外侧向斜下方倾斜。并且，前部(11)的下端(11a)比内杯体(3)的底面(3b)低。因此，当供给到板状被处理物(W)的表面上的涂敷液通过托盘(7)与内杯体(3)的一体旋转而在离心力的作用下通过形成于遮檐状壁部(9)上的孔、排液引导管(10)内的流路以及排液引导管(10)的前部(11)被排出时，不会直接冲撞到内杯体3的内周壁上。
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公开(公告)号：CN1611304A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN200410095195.9
申请日：2004-10-27
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: B05C5/02
Abstract: 本发明提供一种在两端部的涂布液流量难以降低的狭缝喷嘴。狭缝喷嘴由左右半体(2、3)构成，一个半体(2)的对接面设为平面，同时，在另一个半体(3)的中间位置上形成沿长度方向延伸的集合管(4)，在集合管(4)上方的部分(5)形成与半体(2)接合的接合面，在集合管(4)下方的部分(6)比上方部分(5)被更多地研磨而后退，在与半体(2)对接的对接面之间形成间隙，该间隙成为狭缝喷嘴的喷出口(7)的宽度尺寸(W)，进而，该狭缝喷嘴(1)的两侧端通过侧板(8、9)被不透液地封闭。侧板(8、9)由树脂等疏水性材料构成，或者在侧板(8、9)的同半体(2、3)接合的内侧面上涂覆疏水涂层。
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公开(公告)号：CN100445816C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200510078563.3
申请日：2005-06-17
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G02F1/133 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种能可靠地防止大型玻璃基板的端缘部的挠曲的基板端缘部覆膜的除去装置。使基板保持部(2)的轴(4)伸长来使夹具(3)上升，在该上升位置上接取基板(W)。在该状态下，由于自重，基板(W)的周边部向下方挠曲。接着，收缩轴(4)使夹具下降直到与杆部件(17)的上表面同面。于是，基板(W)的周缘部下表面由杆部件(17)支承，基板(W)保持在水平状态下。此时，在清洗组件(10)的狭缝(11)内，利用表面张力保持着清洗液(溶剂)。从这一状态开始，使左右的清洗组件(10)前进，将基板(W)的端缘部插入到清洗组件(10)的狭缝(11)内。
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公开(公告)号：CN100500302C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200410095195.9
申请日：2004-10-27
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种在两端部的涂布液流量难以降低的狭缝喷嘴。狭缝喷嘴由左右半体(2、3)构成，一个半体(2)的对接面设为平面，同时，在另一个半体(3)的中间位置上形成沿长度方向延伸的集合管(4)，在集合管(4)上方的部分(5)形成与半体(2)接合的接合面，在集合管(4)下方的部分(6)比上方部分(5)被更多地研磨而后退，在与半体(2)对接的对接面之间形成间隙，该间隙成为狭缝喷嘴的喷出口(7)的宽度尺寸(W)，进而，该狭缝喷嘴(1)的两侧端通过侧板(8、9)被不透液地封闭。侧板(8、9)由树脂等疏水性材料构成，或者在侧板(8、9)的同半体(2、3)接合的内侧面上涂覆疏水涂层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1710468A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200510078563.3
申请日：2005-06-17
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G02F1/133 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种能可靠地防止大型玻璃基板的端缘部的挠曲的基板端缘部覆膜的除去装置。使基板保持部(2)的轴(4)伸长来使夹具(3)上升，在该上升位置上接取基板(W)。在该状态下，由于自重，基板(W)的周边部向下方挠曲。接着，收缩轴(4)使夹具下降直到与杆部件(17)的上表面同面。于是，基板(W)的周缘部下表面由杆部件(17)支承，基板(W)保持在水平状态下。此时，在清洗组件(10)的狭缝(11)内，利用表面张力保持着清洗液(溶剂)。从这一状态开始，使左右的清洗组件(10)前进，将基板(W)的端缘部插入到清洗组件(10)的狭缝(11)内。
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公开(公告)号：CN101134189A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710145586.0
申请日：2007-08-28
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其能减弱外部振动的影响，特别是能有效抑制因外部振动而引起的共振。在支撑载台(2)和狭缝喷嘴移动机构的方管(20、21a～21c)的凹部(30)中，填装防共振部件(31)。由于在方管中填装防共振部件可改变基座(1)的固有振动频率，因此不会因外部振动而变成共振状态。
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公开(公告)号：CN101145536A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710146097.7
申请日：2007-09-10
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
IPC: H01L21/673 , B23Q3/08 , B25B11/00
Abstract: 本发明提供一种可以可靠且短时间地检测出基板是否被真空吸附的真空吸附装置。一旦有一部分没有被真空吸附的位置，则在该处，基板W会从基板载置台5的上表面多少有些浮起。而且基板W一旦浮起，则通过该处或者其附近各处呈开口的真空检测孔(8)而检测出的压力也就会因为从外部进入了空气而变高。因此，在所设置的多个压力传感器11全部都感知到真空时，就可以判断为基板W被可靠地吸附在基板载置台5的上表面上。
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公开(公告)号：CN101130184B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200710142030.6
申请日：2007-08-20
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。
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公开(公告)号：CN101130184A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710142030.6
申请日：2007-08-20
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。
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