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公开(公告)号：CN115698254B
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202180036613.9
申请日：2021-05-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 大坂享史
Abstract: 使用粒子捕捉设备(1)，具备下述工序：导入工序，将包含靶标粒子(CT)及非靶标粒子(CA)～(CC)的流体从流入路(18)导入腔室(20)内；浓缩工序，使流体的至少一部分通过第一排出路(8)而排出，从而由过滤器(12)浓缩靶标粒子(CT)、和非靶标粒子的至少一部分(CA)；分离工序，利用吸引手段(30)将滤出的非靶标粒子(CA)从靶标粒子(CT)分离；和容纳工序，将靶标粒子(CT)容纳于凹坑。
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公开(公告)号：CN119937242A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202411505387.6
申请日：2024-10-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物。本发明的课题是提供能够通过光刻法形成长期耐热性、耐光性的可靠性高的微透镜的感光性树脂组合物、由该感光性树脂组合物的固化物形成的微透镜、使用前述感光性树脂组合物的微透镜的制造方法、和前述感光性树脂组合物中包含的树脂。本发明的解决手段为：在包含在碱中的溶解性能够通过酸的作用而增大的树脂(A)和通过活化光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂(B)、并且能通过加热而利用羟基与异氰酸酯基的反应进行交联的感光性树脂组合物中，作为树脂(A)，使用包含含有利用可具有取代基的叔烷基进行了保护的羧基的单元(a1)、羟基给予性单元(a2)和含有封端异氰酸酯基的单元(a3)的树脂。
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公开(公告)号：CN114830301B
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202080087446.6
申请日：2020-11-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 木下哲郎
IPC: H01L21/301
Abstract: 本发明提供在半导体晶圆的切割中为了在半导体晶圆的表面形成保护膜而使用的、能够形成激光加工性优异的保护膜且吸光剂的溶解性优异的保护膜形成剂，及使用该保护膜形成剂的半导体芯片的制造方法。该保护膜形成剂包含水溶性树脂(A)、吸光剂(B)、碱性化合物(C)及溶剂(S)。碱性化合物(C)优选为烷基胺、烷醇胺、咪唑化合物、氨或碱金属的氢氧化物。保护膜形成剂中的吸光剂(B)的含量优选为0.1质量％以上10质量％以下。
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公开(公告)号：CN114384757B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202111142385.1
申请日：2021-09-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种即使在烘烤温度较低的情况下也能够形成具有较高溶剂抗性且具有直进性优异的图案形状的遮光性的固化物的黑色感光性树脂组合物、使用该黑色感光性树脂组合物的图案化的固化物的制造方法、由上述黑色感光性树脂组合物的固化物构成的图案化的固化物与黑色矩阵。所述黑色感光性树脂组合物包含碱可溶性树脂(A)、光聚合性单体(B)、光聚合引发剂(C)、遮光剂(D)与多官能硫醇化合物(E)，遮光剂(D)由特定的有机黑色颜料(D1)及(D1)以外的颜料(D2)构成，总固体成分中的遮光剂(D)的含量为25质量％以上50质量％以下，有机黑色颜料(D1)相对于颜料(D1)及(D2)的合计的比例为40质量％以上80质量％以下。
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公开(公告)号：CN118900872A
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202380027322.2
申请日：2023-01-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 海老泽和明
IPC: C08G73/10 , C08F299/02 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种提供介电损耗角正切较低且耐化学药品性优异的聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺树脂前体、该聚酰亚胺树脂前体的制造方法、包含该聚酰亚胺树脂前体作为聚合性树脂(A)的感光性树脂组合物、使用该感光性树脂组合物的图案化的树脂膜以及图案化的聚酰亚胺树脂膜的制造方法。将二胺化合物与作为四羧酸二酐和醇类的反应物的二羧酸的聚合物用作聚酰亚胺树脂前体，并将组合具有仲羟基与乙烯性不饱和双键或者组合具有羟甲基与乙烯性不饱和双键的化合物用作所述醇类。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118435120A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202280083702.3
申请日：2022-12-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 水泽龙马
Abstract: 本发明采用包含丙烯酸树脂(AC)、含环氧基化合物(其中，不包括属于丙烯酸树脂(AC)的化合物)、和阳离子聚合引发剂的光固性组合物。丙烯酸树脂(AC)的玻璃化转变温度为0℃以下。该光固性组合物的特征在于，以1Hz的频率对其固化膜进行粘弹性测定的情况下，温度80℃时的弹性模量为2.0×106[Pa]以上1.0×109[Pa]以下。
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公开(公告)号：CN118434777A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202280085756.3
申请日：2022-11-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供感光性组合物、该感光性组合物的固化物、优选配合至前述感光性组合物中的化合物和该化合物的制造方法，就所述感光性组合物而言，即使被加热，也不易发生组合物或感光性组合物中的成分(在组合物或感光性组合物包含溶剂的情况下，为除溶剂以外的成分)的重量的过度减少，无机微粒在长期内稳定地分散。在包含光聚合性化合物(A)和无机微粒(B)的组合物或包含光聚合性化合物(A)、无机微粒(B)和引发剂(C)的感光性组合物中，使用具有含有自由基聚合性基团的基团的特定结构的化合物作为光聚合性化合物(A)。
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公开(公告)号：CN113462278B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202110344299.2
申请日：2021-03-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D179/08 , C09D7/63
Abstract: 本发明涉及清漆组合物、聚酰亚胺树脂的制造方法及添加剂。本发明提供能形成热膨胀系数、断裂伸长率及拉伸强度等物理性质得到改善的聚酰亚胺树脂的清漆组合物、使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法、和适合用作上述清漆组合物的构成成分的添加剂。针对含有聚酰胺酸(A)及溶剂(S)的用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物，配合下述式(C1)表示的化合物作为酰胺化合物(C)。式(C1)中，Rc1为介由碳‑碳键与羰基进行键合的n价有机基团，Rc2为氢原子、或碳原子数1以上且6以下的烷基，n为1以上且4以下的整数。Rc1‑(‑CO‑NH‑Rc2)n···(C1)。
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公开(公告)号：CN114829537B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202080087385.3
申请日：2020-11-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 先崎尊博
IPC: C09K3/00 , C09D5/00 , C08F226/00 , C09D201/02 , C09D7/61
Abstract: 本发明提供一种即使表面处理后的物品暴露于各种药剂，亲水化的效果也难以随时间降低的表面处理液与使用该表面处理液的亲水化处理方法。表面处理液包含树脂(A)与溶剂(S)，树脂(A)包含源自甜菜碱单体的结构单元(a1)，该甜菜碱单体包含具有乙烯性不饱和双键的基团、阳离子性基团与阴离子性基团且不包含酯键及酰胺键。阳离子性基团优选为季氮阳离子基团，阴离子性基团优选为磺酸阴离子基团、膦酸阴离子基团或羧酸阴离子基团。
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公开(公告)号：CN111198479B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201911129096.0
申请日：2019-11-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；抗溶解剂(Z)，抑制对显影液的溶解性，所述抗溶解剂(Z)包含化合物(Z1)与化合物(Z2)，所述化合物(Z1)的质均分子量为3000以下且在分子内具有酚羟基或羧基，所述化合物(Z2)的质均分子量为3000以下且以下述通式(z2)表示，式中，Rz20为酸解离性基团，Rz30为氢原子或有机基团，n1为1～6的整数，n2为0～5的整数，其中，n1+n2＝6。【化1】#imgabs0#
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