公开(公告)号：CN101134189A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200710145586.0

申请日：2007-08-28

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  龙云株式会社

Inventor： 宫本英典 ,  升芳明 ,  池尻浩一 ,  曽根康博

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/00

Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其能减弱外部振动的影响，特别是能有效抑制因外部振动而引起的共振。在支撑载台(2)和狭缝喷嘴移动机构的方管(20、21a～21c)的凹部(30)中，填装防共振部件(31)。由于在方管中填装防共振部件可改变基座(1)的固有振动频率，因此不会因外部振动而变成共振状态。

公开(公告)号：CN101145536A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200710146097.7

申请日：2007-09-10

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  龙云株式会社

Inventor： 升芳明 ,  宫本英典 ,  吉泽健司 ,  谷本恒夫 ,  曽根康博

IPC: H01L21/673 ,  B23Q3/08 ,  B25B11/00

Abstract: 本发明提供一种可以可靠且短时间地检测出基板是否被真空吸附的真空吸附装置。一旦有一部分没有被真空吸附的位置，则在该处，基板W会从基板载置台5的上表面多少有些浮起。而且基板W一旦浮起，则通过该处或者其附近各处呈开口的真空检测孔(8)而检测出的压力也就会因为从外部进入了空气而变高。因此，在所设置的多个压力传感器11全部都感知到真空时，就可以判断为基板W被可靠地吸附在基板载置台5的上表面上。

公开(公告)号：CN101130184B

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN200710142030.6

申请日：2007-08-20

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  龙云株式会社

Inventor： 升芳明 ,  宫本英典 ,  吉泽健司 ,  曽根康博

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/02

Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。

公开(公告)号：CN101130184A

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：CN200710142030.6

申请日：2007-08-20

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  龙云株式会社

Inventor： 升芳明 ,  宫本英典 ,  吉泽健司 ,  曽根康博

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/02

Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。