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公开(公告)号：CN101134189A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710145586.0
申请日：2007-08-28
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其能减弱外部振动的影响，特别是能有效抑制因外部振动而引起的共振。在支撑载台(2)和狭缝喷嘴移动机构的方管(20、21a～21c)的凹部(30)中，填装防共振部件(31)。由于在方管中填装防共振部件可改变基座(1)的固有振动频率，因此不会因外部振动而变成共振状态。
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公开(公告)号：CN101145536A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710146097.7
申请日：2007-09-10
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
IPC: H01L21/673 , B23Q3/08 , B25B11/00
Abstract: 本发明提供一种可以可靠且短时间地检测出基板是否被真空吸附的真空吸附装置。一旦有一部分没有被真空吸附的位置，则在该处，基板W会从基板载置台5的上表面多少有些浮起。而且基板W一旦浮起，则通过该处或者其附近各处呈开口的真空检测孔(8)而检测出的压力也就会因为从外部进入了空气而变高。因此，在所设置的多个压力传感器11全部都感知到真空时，就可以判断为基板W被可靠地吸附在基板载置台5的上表面上。
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公开(公告)号：CN101130184B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200710142030.6
申请日：2007-08-20
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。
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公开(公告)号：CN101130184A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710142030.6
申请日：2007-08-20
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。
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公开(公告)号：CN107785240B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201710573155.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/3105 , C08G73/10
Abstract: 本实施方式的基板加热装置，包括：减压部，对涂布了溶液的基板的容纳空间的气氛进行减压；红外线加热器，能够通过红外线加热所述基板；所述红外线加热器呈在多个部位弯折的管状，并且包括：弯曲部，以向外侧凸出的方式弯折；盖部，配置为从外侧覆盖所述弯曲部的至少一部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106971938A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201610945544.4
申请日：2016-10-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/02 , H01L2221/67
Abstract: 本发明涉及一种基板加热装置及基板加热方法，缩短基板的加热所需要的工作时间。实施方式的基板加热装置包含：减压部，能够将涂布有用来形成聚酰亚胺的溶液的基板减压；第一加热部，能够以第一温度加热所述基板；以及第二加热部，能够以比所述第一温度更高的第二温度加热所述基板；且所述第二加热部与所述第一加热部分别独立地设置。
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公开(公告)号：CN101121161A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200710129601.2
申请日：2007-07-23
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种可减少排出到排气罐的涂敷液的量，且高效的药液供给方法。在t1时刻，开启开关阀(11)的同时，使泵的电机正转，逐渐扩大储存空间的容积。经过了除气模块(8)的涂敷液，通过涂敷液供给管(10)供给至定量泵的储存空间。然后在涂敷液储存空间达到规定容积的t2时刻，暂时停止泵的电机，同时关闭开关阀(11)，在经过t2时刻约2秒后，再次使泵的电机正转，由此扩大涂敷液储存空间的容积，填充涂敷液。此时因为开关阀(14，17)也为关闭状态，故涂敷液储存空间变为密闭空间，随着涂敷液储存空间的容积扩大，涂敷液储存空间内的压力降低。此后，在t5时刻打开开关阀(17)，开放涂敷液储存空间内的剩余压力，将剩余的涂敷液回收至罐(19)。
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公开(公告)号：CN1931446A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200610127551.X
申请日：2006-09-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂膜形成方法，该方法在对基板涂敷例如显影液、清洗液、SOG溶液及抗蚀剂等涂敷液时，可以降低涂敷开始点周边的涂膜凸起，并能降低涂膜整体的起伏。本发明利用在被涂物(1)表面之上相对移动的狭缝喷嘴(2)所提供的涂敷液，在被涂物(1)表面形成均匀的涂膜，在涂敷开始时，使狭缝喷嘴(2)的涂敷液排出口(2b)接近被涂物(1)表面，其次，通过驱动涂敷液送液泵(3)，使涂敷液排出口(2b)与被涂物(1)表面之间以涂敷液连接，接着，在将涂敷液的连接状态维持规定时间后，开始进行涂敷。
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公开(公告)号：CN106028650B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201610149839.0
申请日：2016-03-16
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能从支撑体良好地剥离树脂衬底的衬底剥离装置及衬底剥离方法。本发明涉及一种衬底剥离装置，所述衬底剥离装置是剥离在支撑体上形成的平面形状为矩形的树脂衬底的衬底剥离装置，其具有：插入部，所述插入部被配置在树脂衬底的至少1个角部，可插入到角部与支撑体的界面中；移动机构，所述移动机构在插入部被插入到界面中的状态下，使插入部与支撑体相对移动；和剥离机构，所述剥离机构保持树脂衬底，将通过插入部而在界面处形成的狭缝作为基点，从支撑体剥离树脂衬底。
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公开(公告)号：CN101254495A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200810006392.7
申请日：2008-02-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供基板的输送涂布装置。从用输送机构(14)的垫保持处理后的基板(W1)，用输送机构(13)的垫保持了未处理的基板(W2)的状态，输送机构向图中右侧移动，处理后的基板(W1)向交接位置浮起输送，未处理的基板(W2)向涂布处理部浮起输送。在涂布处理部向未处理的基板(W2)表面涂布涂布液期间，输送机构(14)返回校准装置，保持下一未处理的基板(W3)。输送机构(13)将完成了涂布处理的基板(W2)输送至基板搬出部，输送机构(14)将未处理的基板(W3)输送至涂布处理部的工序。输送机构向图中右侧移动，处理后的基板(W2)向交接位置浮起输送，未处理的基板(W3)向涂布处理部浮起输送。
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