公开(公告)号：CN107492538A

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201710431549.X

申请日：2017-06-09

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金兑泳 ,  姜泌圭 ,  金石镐 ,  文光辰 ,  李镐珍

IPC: H01L23/538

CPC classification number: H01L24/94 ,  H01L24/02 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/08 ,  H01L24/29 ,  H01L24/80 ,  H01L24/83 ,  H01L24/92 ,  H01L25/0657 ,  H01L2224/02215 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/0346 ,  H01L2224/03616 ,  H01L2224/04105 ,  H01L2224/05007 ,  H01L2224/05026 ,  H01L2224/05147 ,  H01L2224/05166 ,  H01L2224/05181 ,  H01L2224/05546 ,  H01L2224/05547 ,  H01L2224/05556 ,  H01L2224/05559 ,  H01L2224/05562 ,  H01L2224/05571 ,  H01L2224/05573 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/08121 ,  H01L2224/08147 ,  H01L2224/08501 ,  H01L2224/29187 ,  H01L2224/29188 ,  H01L2224/80013 ,  H01L2224/80097 ,  H01L2224/8012 ,  H01L2224/8082 ,  H01L2224/80895 ,  H01L2224/80896 ,  H01L2224/8312 ,  H01L2224/83896 ,  H01L2224/9211 ,  H01L2224/94 ,  H01L2225/06527 ,  H01L2924/0537 ,  H01L2924/05432 ,  H01L2924/05442 ,  H01L2924/0549 ,  H01L2924/365 ,  H01L2224/80 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01025 ,  H01L2924/013 ,  H01L2924/01013 ,  H01L23/5386

Abstract: 本发明公开了一种晶片到晶片接合结构，该晶片到晶片接合结构包括：第一晶片，包括在第一绝缘层中的第一导电焊垫和围绕第一导电焊垫的下表面和侧表面的第一阻挡层；第二晶片，包括在第二绝缘层中的第二导电焊垫和围绕第二导电焊垫的下表面和侧表面的第二阻挡层，第二晶片在反转之后接合到第一晶片使得第二绝缘层接合到第一绝缘层并且第二导电焊垫的上表面的至少一部分部分地或完全地接合到第一导电焊垫的上表面的至少一部分；以及第三阻挡层，在第一晶片和第二晶片之间的在该处第一导电焊垫和第二导电焊垫未彼此接合的部分中。

公开(公告)号：CN103258787A

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：CN201310052685.X

申请日：2013-02-18

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李镐珍 ,  李圭夏 ,  崔吉铉 ,  崔溶洵 ,  姜泌圭 ,  朴炳律 ,  郑显秀

IPC: H01L21/768

CPC classification number: H01L21/768 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/6836 ,  H01L21/76898 ,  H01L23/3192 ,  H01L23/481 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/06 ,  H01L24/13 ,  H01L25/0657 ,  H01L2221/68372 ,  H01L2224/02372 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05009 ,  H01L2224/05027 ,  H01L2224/05548 ,  H01L2224/05567 ,  H01L2224/05568 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/05571 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/13006 ,  H01L2224/13009 ,  H01L2224/13022 ,  H01L2224/13023 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/13076 ,  H01L2224/13082 ,  H01L2224/131 ,  H01L2224/14181 ,  H01L2224/16146 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/16227 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06517 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2225/06548 ,  H01L2225/06565 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/351 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/014 ,  H01L2224/05552 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供了一种制造半导体装置的方法。在一个实施例中，所述方法包括在基层中形成导电孔结构。所述基层具有第一表面和第二表面，第二表面与第一表面相对。所述方法还包括：去除所述基层的第二表面，以暴露导电孔结构，从而导电孔结构从第二表面突出；在第二表面上方形成第一下绝缘层，使得导电孔结构的端部表面保持为被第一下绝缘层暴露。

公开(公告)号：CN103247600A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201310042094.4

申请日：2013-02-01

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李镐珍 ,  姜泌圭 ,  李圭夏 ,  朴炳律 ,  郑显秀 ,  崔吉铉

IPC: H01L23/528 ,  H01L21/768

CPC classification number: H01L23/481 ,  H01L21/76898 ,  H01L23/525 ,  H01L24/05 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L2224/02372 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05 ,  H01L2224/05024 ,  H01L2224/05027 ,  H01L2224/05568 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/13139 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/05552

Abstract: 本发明提供了通孔连接结构、具有该结构的半导体器件及其制造方法。所述半导体器件包括：下层；在所述下层的第一侧上的绝缘层；在所述绝缘层中的互连结构；在所述下层中的通孔结构。该通孔结构突出至所述绝缘层和所述互连结构内。

公开(公告)号：CN102479771A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201110396465.X

申请日：2011-11-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李镐珍 ,  赵泰济 ,  张东铉 ,  宋昊建 ,  郑世泳 ,  姜芸炳 ,  尹玟升

IPC: H01L23/538 ,  H01L21/768

CPC classification number: H01L23/49844 ,  H01L21/76831 ,  H01L21/76844 ,  H01L21/76898 ,  H01L23/481 ,  H01L23/49816 ,  H01L23/49822 ,  H01L23/49827 ,  H01L23/49838 ,  H01L23/525 ,  H01L25/0657 ,  H01L2224/02372 ,  H01L2224/05009 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/16 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2224/16227 ,  H01L2224/17181 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06544 ,  H01L2924/15311

Abstract: 本发明提供一种半导体装置及其制造方法和半导体封装件。在一个实施例中，一种半导体装置包括具有第一表面和与第一表面相对的第二表面的半导体基底。第二表面限定再分布槽。基底具有延伸通过基底的通孔。半导体装置还包括设置在通孔中的通孔件。通孔件可以包括顺序形成在通孔的内壁上的通孔绝缘层、阻挡层。通孔件还可以包括与阻挡层相邻的导电连接件。半导体装置另外包括形成在基底的第二表面上的绝缘层图案。绝缘层图案限定暴露通孔件的顶表面的一定区域的开口。半导体装置包括设置在槽中并电连接到通孔件的再分布层。绝缘层图案与导电连接件的一定区域叠置。

公开(公告)号：CN119028996A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202410436991.1

申请日：2024-04-11

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李准京 ,  金泰成 ,  李镐珍 ,  林东灿 ,  黄载元

IPC: H01L27/146

Abstract: 本公开提供了一种半导体器件制造方法，包括：形成下芯片和上芯片；以及将下芯片和上芯片彼此接合。形成下芯片包括：提供下衬底；顺序地形成下层间绝缘膜和预下粘合膜；蚀刻预下粘合膜和下层间绝缘膜的部分以形成下沟槽；使用溅射工艺来形成第一下籽晶膜和第二下籽晶膜。形成上芯片包括：提供上衬底；顺序地形成上层间绝缘膜和预上层粘合膜；蚀刻预上层粘合膜和上层间绝缘膜的部分以形成上沟槽；使用溅射工艺来形成第一上籽晶膜和第二上籽晶膜。

公开(公告)号：CN109962064B

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN201811267757.1

申请日：2018-10-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 千镇豪 ,  孙成旻 ,  全炯俊 ,  文光辰 ,  安振镐 ,  李镐珍 ,  藤崎纯史

IPC: H01L25/18 ,  H10B80/00 ,  H01L23/48 ,  H01L23/485 ,  H01L23/488 ,  H01L21/60

Abstract: 一种半导体装置及其制造方法，所述半导体装置包括：延伸穿过衬底的通孔电极结构；通孔电极结构上的再分布层；以及导电焊盘，该导电焊盘包括延伸穿过再分布层的贯穿部分以及贯穿部分上的突出部分，所述突出部分从再分布层的上表面突出，其中突出部分的上表面的中间区平坦，并且不比突出部分的上表面的边缘区更靠近衬底。

公开(公告)号：CN107768305B

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN201710709806.1

申请日：2017-08-17

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李镐珍 ,  文光辰 ,  金石镐 ,  方硕哲 ,  安振镐 ,  李来寅

IPC: H01L21/768

公开(公告)号：CN108074797B

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN201711107811.1

申请日：2017-11-10

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李镐珍 ,  金石镐 ,  文光辰 ,  朴炳律 ,  李来寅

IPC: H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种通过使用晶片级工艺对衬底的斜面区进行修整而能够提高工艺再现性及工艺稳定性的制作衬底结构的方法。所述方法包括：提供第一衬底，所述第一衬底包括彼此相对的第一表面与第二表面、以及形成在所述第一表面的第一装置区；提供第二衬底，所述第二衬底包括彼此相对的第三表面与第四表面、以及位于所述第三表面的第二装置区；对所述第一衬底与所述第二衬底进行结合，以对所述第一装置区与所述第二装置区进行电连接；以及形成经修整的衬底。所述形成所述经修整的衬底包括蚀刻被结合到所述第一衬底的所述第二衬底的边缘区。

公开(公告)号：CN115440702A

公开(公告)日：2022-12-06

申请号：CN202210506327.0

申请日：2022-05-10

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴承河 ,  文光辰 ,  李镐珍

IPC: H01L23/538 ,  H01L27/088

Abstract: 一种半导体器件，包括：包含有源区的正面和与正面相对的背面的衬底、位于有源区上的电子元件、在衬底的正面上与电子元件电连接的正面布线结构、以及在衬底的背面上与电子元件电连接的背面布线结构。背面布线结构包括依次堆叠在衬底的背面上的多个背面布线图案，以及与多个背面布线图案中的至少一层相交并延伸穿过该至少一层的超通孔图案。

公开(公告)号：CN115332206A

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN202210112648.2

申请日：2022-01-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 黄载元 ,  文光辰 ,  李镐珍 ,  全炯俊

IPC: H01L23/48 ,  H01L23/528 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532

Abstract: 一种半导体器件包括：半导体衬底，所述半导体衬底具有与有源层相邻的第一表面；第一绝缘层，所述第一绝缘层设置在所述半导体衬底的所述第一表面上；第二绝缘层，所述第二绝缘层设置在所述第一绝缘层上；蚀刻停止结构，所述蚀刻停止结构介于所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间并且包括多个蚀刻停止层；接触布线图案，所述接触布线图案设置在所述第二绝缘层内部并且被所述多个蚀刻停止层中的至少一个蚀刻停止层围绕；以及贯通电极结构，所述贯通电极结构被构造为在垂直方向上穿过所述半导体衬底、所述第一绝缘层和所述多个蚀刻停止层中的至少一个蚀刻停止层并且接触所述接触布线图案。