半导体器件制造方法和使用该半导体器件制造方法而制造的半导体器件

    公开(公告)号:CN119028996A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202410436991.1

    申请日:2024-04-11

    Abstract: 本公开提供了一种半导体器件制造方法,包括:形成下芯片和上芯片;以及将下芯片和上芯片彼此接合。形成下芯片包括:提供下衬底;顺序地形成下层间绝缘膜和预下粘合膜;蚀刻预下粘合膜和下层间绝缘膜的部分以形成下沟槽;使用溅射工艺来形成第一下籽晶膜和第二下籽晶膜。形成上芯片包括:提供上衬底;顺序地形成上层间绝缘膜和预上层粘合膜;蚀刻预上层粘合膜和上层间绝缘膜的部分以形成上沟槽;使用溅射工艺来形成第一上籽晶膜和第二上籽晶膜。

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