开关电路装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1372382A

    公开(公告)日:2002-10-02

    申请号:CN02106544.6

    申请日:2002-02-27

    Abstract: 在化合物半导体开关电路装置中,为进行开关动作,对每一个FET都设置了控制端点。因此,存在印刷基板的安装面积大的问题。本发明的课题具有如下特征:具备第1和第2FET、与上述两FET的源电极或漏电极连接的公用输入端点、与上述两FET的漏电极或源电极连接的第1和第2输出端点、向上述第1FET的上述第1输出端点供给规定的偏压的偏压装置、连接控制端点和上述第2输出端点的连接装置、使上述第2FET的栅电极接地的接地装置、以及在上述公用输入端点和上述第2FET的源电极或漏电极间隔直流的隔离装置,向与上述第1FET的栅电极连接的控制端点施加控制信号。

    化合物半导体开关电路装置

    公开(公告)号:CN1348255A

    公开(公告)日:2002-05-08

    申请号:CN01125561.7

    申请日:2001-08-13

    Abstract: 一种化合物半导体开关电路装置,原来为了尽可能减小插入损失,采用了将栅极宽度Wg取得大一些、降低FET的导通电阻的方法。此外,还将焊盘和相邻布线层之间的距离取为20μm以上。对2.4GHz以上的高频,设计时着眼于确保隔离度而省去分路FET,从两方面去考虑过去采用的降低FET的导通电阻的效果。即,在化合物半导体开关电路装置中,将开关用的FET的栅极宽度设定在700μm以下来减小其尺寸,同时,在焊盘周边部设置绝缘膜,用小的空间来确保高频信号的耦合和耐压。结果,可以大幅度缩小芯片的尺寸。

    化合物半导体开关电路装置

    公开(公告)号:CN1855718A

    公开(公告)日:2006-11-01

    申请号:CN200610073261.1

    申请日:2006-04-06

    CPC classification number: H01L29/7785 H01L21/8252 H01L27/0266 H01L27/0605

    Abstract: 本发明提供一种化合物半导体开关电路装置,在内装有逻辑电路的化合物半导体开关MMIC中,存在有逻辑电路的E-FET、电容抗静电击穿弱的问题。在逻辑电路的逻辑电路L的控制端子Ctl-接地端子GND之间、点CP-接地端子GND之间以及电源端子VDD-接地端子GND之间分别连接保护元件(200)。由此,可防止构成倒相元件(70)的E-FET和电容Ci、Cr被来自外部的静电破坏。由于保护元件可由逻辑电路的必要结构要素构成,故不必附加特别的工序或结构即可实现。

    肖特基势垒二极管及其制造方法

    公开(公告)号:CN1279626C

    公开(公告)日:2006-10-11

    申请号:CN02141456.4

    申请日:2002-08-30

    Abstract: 一种肖特基势垒二极管及其制造方法。目前,由于有台面型晶体管蚀刻及厚的聚酰亚胺层等,故不能推进芯片的小型化,并且,电极间存在距离,不能提高特性。另外,其制造方法中肖特基结部分的蚀刻控制很困难。本发明通过在基板表面设置n+型离子注入区域,不再需要设置台面及聚酰亚胺层,可实现化合物半导体的平面型肖特基势垒二极管。由于可使电极间距离接近,可实现芯片的缩小,也可提高高频特性。由于形成肖特基结区域时不蚀刻GaAs,故可制造再现性好的肖特基势垒二极管。

    肖特基势垒二极管及其制造方法

    公开(公告)号:CN1279625C

    公开(公告)日:2006-10-11

    申请号:CN02141455.6

    申请日:2002-08-30

    Abstract: 一种肖特基势垒二极管及其制造方法。目前,由于有台面型晶体管蚀刻及厚的聚酰亚胺层等,故不能推进芯片的小型化,并且,电极间存在距离,不能提高特性。另外,其制造方法中肖特基结部分的蚀刻控制很困难。本发明通过在基板表面设置n型及n+型离子注入区域形成动作区域,不再需要设置台面及聚酰亚胺层,可实现化合物半导体的平面型肖特基势垒二极管。可降低晶片的成本,由于可使电极间距离接近,故可实现芯片的缩小,也可提高高频特性。由于形成肖特基电极时不蚀刻GaAs,故可制造再现性好的肖特基势垒二极管。

    化合物半导体开关电路装置

    公开(公告)号:CN1794583A

    公开(公告)日:2006-06-28

    申请号:CN200510131707.7

    申请日:2005-12-13

    CPC classification number: H01L27/0605 H01L27/0251

    Abstract: 一种化合物半导体开关电路装置,在开关MMIC中,为提高静电击穿电压,有将控制电阻靠近共通输入端子焊盘配置,并利用焊盘的周边杂质区域连接保护元件的情况。但是,当输入到共通输入端子焊盘上的高频模拟信号泄漏到控制电阻上,而到达控制端子焊盘上时,存在插入损耗增大的问题。在控制端子焊盘的附近,从控制端子焊盘到保护元件之间的控制电阻上连接高电阻体。由此,即使高频模拟信号泄漏到控制电阻上,也可以通过高电阻体将其衰减。因此,实质上高频模拟信号不会传递到控制端子焊盘上,可抑制插入损耗的增大。

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