用于支持多个半导体处理模块或腔室的模块化主机布局

    公开(公告)号:CN116848629A

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202280013740.1

    申请日:2022-02-17

    Abstract: 本文提供将小芯片接合至基板的方法和装置。在一些实施例中,一种用于处理基板的多腔室处理工具包括:设备前端模块(EFEM),所述设备前端模块(EFEM)具有用于接收一种或多种类型的基板的一个或多个载入口;以及多个自动化模块,所述多个自动化模块彼此耦接并具有耦接至EFEM的第一自动化模块,其中多个自动化模块中的每一者包括传送腔室和耦接至传送腔室的一个或多个处理腔室,其中传送腔室包括被配置成保持多个一种或多种类型的基板的缓冲器,并且其中传送腔室包括传送机器人,所述传送机器人被配置成在缓冲器、一个或多个处理腔室、以及设置在多个自动化模块中的相邻自动化模块中的缓冲器之间传送一种或多种类型的基板。

    改变平版印刷图案以调整镀覆均匀性的方法和设备

    公开(公告)号:CN118871626A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202380027718.7

    申请日:2023-03-14

    Abstract: 用于电镀基板的方法和设备结合数字平版印刷和来自电镀工艺的反馈的各方面,以基于晶粒图案改善镀覆材料的特性。在一些实施例中,电镀基板的方法可包括以下步骤:接收晶粒设计,基于晶粒设计针对第一基板形成第一平版印刷图案,使用数字平版印刷工艺以第一平版印刷图案来图案化第一基板,使用电镀工艺以在第一基板上沉积材料,使用计量工艺来确定第一基板上的经沉积材料的至少一个参数,以及针对第二基板至少部分地基于由数字平版印刷工艺从第一基板上的计量工艺直接接收的所述至少一个参数来针对第二基板从第一平版印刷图案形成第二平版印刷图案。

    半导体结构与先进基板面板的混合接合

    公开(公告)号:CN119563232A

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202380053507.0

    申请日:2023-07-17

    Abstract: 用于接合半导体表面的方法利用混合接合工艺来实现异质集成架构。在一些实施例中,所述方法可以包括在硅基基板上形成半导体结构,所述半导体结构具有在半导体结构的顶表面上的第一组暴露的导电连接。第一组暴露的导电连接具有小于约10微米的节距。形成具有第二组暴露的导电连接的先进矩形基板面板。第二组暴露的导电连接具有小于约10微米的节距。使用混合接合工艺将半导体结构的顶表面接合到先进矩形基板面板的顶表面,以将半导体结构接合到先进矩形基板面板。

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