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公开(公告)号：CN119559249A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202510127698.1
申请日：2025-02-05
Applicant: 深圳市至臻精密股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种基于定位跟踪的选镀控制方法及系统，涉及电镀技术领域；在检测到待镀工件时，对待镀工件上的定位器进行扫描，以得到表征待镀工件的位置的第一定位信息和用于确定需要电镀的区域的目标信息，接着，对待镀工件图像进行图像采集，得到待镀工件图像。基于待镀工件图像和目标信息，确定表征目标区域的位置的第二定位信息。进而，基于第一定位信息和第二定位信息，对目标区域进行电镀，实现特定区域的选择性电镀。通过先定位待镀工件，再定位待镀工件的特定区域，无需人工干预实现特定区域的定位。通过待镀工件图像和目标信息，可以对特定区域进行精准定位。该技术方案可以提高选镀控制的精准性和效率，进而提高电镀产品的质量。
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公开(公告)号：CN119553344A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202510125128.9
申请日：2025-01-27
Applicant: 江苏台祥自动化科技有限公司
Inventor： 阳新坚
Abstract: 本发明属于电镀支撑架技术领域，具体公开了一种电镀立柱机架的调节座，包括旋转式电镀支架机构、重力感应式磁性拾取机构、自适应调速驱动机构和上下料机构。本发明通过感应工件质量的方式，对自适应调速驱动机构的传动比进行自适应地调节，通过自动补偿电镀时间的方式，能够显著减小工件规格变化时，本工艺对电镀层的质量影响；不仅如此，本发明还通过交替上下料的方案，同时仅拾取一个磁性载物板，既能提高整体工作效率，又能避免同时拾取多个工件时自适应调速驱动机构的调节发生紊乱的问题。
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公开(公告)号：CN119553339A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202510125137.8
申请日：2025-01-27
Applicant: 江苏台祥自动化科技有限公司
Inventor： 阳新坚
Abstract: 本发明属于属于电镀装置技术领域，具体是指一种自适应浸入式的电镀设备，包括间歇式往复升降机构、重力感应式调速机构、转盘式拨料机构、上下料机构和电镀箱，所述间歇式往复升降机构设于电镀箱中，所述重力感应式调速机构设于电镀箱的外侧，所述转盘式拨料机构设于重力感应式调速机构上，所述上下料机构设于间歇式往复升降机构上，所述上下料机构位于间歇式往复升降机构的两侧。本发明能够根据工件的重量变化情况，主动地对电镀持续时间进行调节和补偿，从而大大减小因工件表面积变化导致的厚度波动情况。
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公开(公告)号：CN119530941A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202311093332.4
申请日：2023-08-28
Applicant: 盛美半导体设备(上海)股份有限公司
Abstract: 本发明提出的电镀装置，包括中心流管，穿设在阳极内，一端为阳极电镀液进口，另一端延伸出阳极表面，且连接有多个向阳极的边缘延伸的分支流管，各分支流管设有多个喷射孔；阳极电镀液通过分支流管的喷射孔供应到阳极表面。本发明能够将阳极电镀液引流至阳极表面，利用液体的冲击力将阳极表面产生的氧化物及时冲刷掉，从而保证回路阻抗不变，避免回路电压升高；而且增加了阳极电镀液的流动性以及流量的均匀性。
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公开(公告)号：CN119506988A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411417145.1
申请日：2024-10-11
Applicant: 重庆大学 , 重庆新型储能材料与装备研究院
Abstract: 本发明涉及金属材料制备技术领域，具体涉及一种镁或镁合金材料的制备方法，所述方法包括：以导电金属作为工作电极，以镁或镁合金作为参比电极和对电极，将工作电极、参比电极和对电极浸入包括镁离子的有机电解液中，在工作电极表面电镀沉积得到镁或镁合金材料。其工艺流程简单，成本低，能够制得厚度均匀的板状镁或镁合金材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119487241A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202380049777.4
申请日：2023-09-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 富田正辉
Abstract: 本发明抑制因从阳极产生的气泡导致的镀覆不良的产生，并且使与镀覆液的供给有关的构造简化。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(410)，其用于收容镀覆液；阳极(430)，其配置于镀覆槽(410)内；基板支架(440)，其构成为在使被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的状态下保持基板(Wf)；隔膜(420)，其将配置有阳极(430)的阳极区域(424)和在镀覆处理时供基板(Wf)配置的阴极区域(422)分隔，隔膜具有与阳极(430)对置的倾斜面(423a)；供给口(412)，其用于向阳极区域(424)供给镀覆液；以及气液配管(470)，其具有在隔膜(420)的倾斜面(423a)的上端附近开口的第一端部(472)、和在比镀覆处理时的基板的被镀覆面靠上方开口的第二端部(474)，该气液配管构成为将从供给口(412)供给至阳极区域(424)的镀覆液经由第二端部(474)向阴极区域(422)供给。
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公开(公告)号：CN115874236B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202211559801.2
申请日：2022-12-06
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种用于集成电路填钴的镀钴添加剂、电镀钴镀液及电镀方法，属于电镀技术领域。具体方案如下：镀钴添加剂，包括抑制剂，所述抑制剂为苯并四氮唑类化合物中的一种或多种的组合，结构式如式Ⅰ，式中，R为烷基链、苯基、含其他取代基官能团的苯基或硝基，R1、R2、R3和R4相同或者不同，分别为氢、硝基、烷基中的一种，R5和R6相同或者不同，分别为氢、卤素、酯基、羰基、烷基中的一种，#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119372755A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202411383088.X
申请日：2024-09-30
Applicant: 深圳市贝加电子材料有限公司
Abstract: 本公开提供一种基于主副槽的黑影液清洗倒换方法及黑影工艺喷淋药液。上述的基于主副槽的黑影液清洗倒换方法包括如下步骤：控制主黑影槽的旧液通过旧液流出软管流入第一过滤袋内，使主黑影槽的旧液经过第一过滤袋的过滤后依次流入至第一缓存盒及副转槽内；对主黑影槽的进行槽体清洗操作，以排出主黑影槽的杂质；控制副转槽的新液通过新液流入软管流入第二过滤袋内，使副转槽的新液经过第二过滤袋的过滤后依次流入至第二缓存盒及主黑影槽内；在第一缓存盒外对第一过滤袋进行清洗操作；在第二缓存盒外对第二过滤袋进行清洗操作。如此，有效解决黑影液在回流过程中因淤泥和结晶残留导致的喷淋过滤网堵塞问题，避免了主黑影槽内的喷淋压力减小的问题。
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公开(公告)号：CN119365635A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202480002694.4
申请日：2024-01-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 平尾智则
Abstract: 本发明实现能够应对供电位置不同的各种种类的基板的基板支架。基板支架(210)包括底板、和用于与底板一起夹持并保持基板的面板(230)。面板(230)具有中央开口(234a)及包围中央开口(234a)的框部件(234)。基板支架(210)包括接触部件(240)，该接触部件(240)具有以能够相对于框部件(234)移动的方式安装于框部件(234)的第一汇流条(242)、以及安装于第一汇流条(242)的供电接触件(243)。
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公开(公告)号：CN119352132A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411331550.1
申请日：2024-09-24
Applicant: 王天顺
Abstract: 本发明涉及电镀技术领域，具体为一种浮动式电镀槽，主要包括槽体、阴极板和浮力筏；阴极板固定在浮力筏上，阴极板上开设有供电镀液穿过的通孔；浮力筏设置有多个，浮力筏放置在槽体内，各浮力筏单独工作；槽体内装入电镀液，浮力筏带动阴极板漂浮在电镀液中；浮力筏的出气口与电磁阀连接，电磁阀的排气口对着工件的放置位置。本发明通过采用浮力筏在工件电镀时控制工件上下起伏，并利用阴极板上的通孔促进电镀液的流动，通过上述方式实现电镀液大范围的均匀混流，提高大型电镀池电镀液的流动性，并且该设计可以将电镀池内的电镀液向上排出用于工件的电镀，使得工件可以以较少的电镀液进行电镀，相较于传统的电镀方式，能够节约电镀液的使用量。
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