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公开(公告)号：CN109652851B
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN201811183566.7
申请日：2018-10-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种对基板进行镀覆的镀覆装置，降低由叶片的动作产生的镀覆液的液面的摆动。该镀覆装置具有：镀覆槽，该镀覆槽构成为收容镀覆液；叶片，该叶片配置于所述镀覆槽内，且构成为对所述镀覆液进行搅拌；以及液面摆动降低部件，该液面摆动降低部件配置于所述镀覆槽内，且具有供所述镀覆液通过的流路，该液面摆动降低部件使通过所述流路的所述镀覆液的流速上升而使所述镀覆液所形成的波的能量衰减。
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公开(公告)号：CN113279040A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110189050.9
申请日：2021-02-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供能够适当地保持基板的基板保持装置。上述基板具有：被电镀部，暴露于电镀液；以及边缘部亦即上述被电镀部的外侧区域。上述基板保持装置具备：把持模块，用于通过与基板的上述边缘部接触来把持基板；吸引模块，用于吸引并保持基板的上述被电镀部；以及凸部，设置于基板中的与上述被电镀部对应的位置，比上述吸引模块向被上述基板保持装置保持的基板突出。
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公开(公告)号：CN113073374B
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202110007901.3
申请日：2021-01-05
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提出能够使基板精度良好地定位并保持于基板支架的基板处理装置以及方法。控制配置调整机构，以便基于第一传感器的检测来调整基板的配置，控制第二传感器，以便检测在基于上述第一传感器的检测调整了配置的基板的板面预先形成的特征点，确认通过上述第二传感器检测出的特征点的位置是否处于允许范围，在通过上述第二传感器检测出的特征点的位置处于上述允许范围内的情况下，控制上述配置调整机构，以便基于上述第二传感器的检测来调整上述基板的配置，在基于上述第二传感器的检测调整了上述基板的配置之后，控制上述基板拆装机构，以便将基板安装于上述基板支架。
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公开(公告)号：CN113073374A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110007901.3
申请日：2021-01-05
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提出能够使基板精度良好地定位并保持于基板支架的基板处理装置以及方法。控制配置调整机构，以便基于第一传感器的检测来调整基板的配置，控制第二传感器，以便检测在基于上述第一传感器的检测调整了配置的基板的板面预先形成的特征点，确认通过上述第二传感器检测出的特征点的位置是否处于允许范围，在通过上述第二传感器检测出的特征点的位置处于上述允许范围内的情况下，控制上述配置调整机构，以便基于上述第二传感器的检测来调整上述基板的配置，在基于上述第二传感器的检测调整了上述基板的配置之后，控制上述基板拆装机构，以便将基板安装于上述基板支架。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109537032A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811109882.X
申请日：2018-09-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 镀覆装置具有：镀覆槽；基板保持架，该基板保持架配置于所述镀覆槽，用于保持基板；阳极，该阳极用于在与所述基板之间产生电场；以及至少一个电场遮蔽体，该至少一个电场遮蔽体用于遮蔽所述基板保持架和所述电场的一部分或者全部，所述电场遮蔽体具有使所述基板与所述阳极之间的电场穿过的开口部，并且，所述电场遮蔽体构成为能够独立地调整所述开口部的第一方向上的开口尺寸以及第二方向上的开口尺寸。
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公开(公告)号：CN109537032B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN201811109882.X
申请日：2018-09-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 镀覆装置具有：镀覆槽；基板保持架，该基板保持架配置于所述镀覆槽，用于保持基板；阳极，该阳极用于在与所述基板之间产生电场；以及至少一个电场遮蔽体，该至少一个电场遮蔽体用于遮蔽所述基板保持架和所述电场的一部分或者全部，所述电场遮蔽体具有使所述基板与所述阳极之间的电场穿过的开口部，并且，所述电场遮蔽体构成为能够独立地调整所述开口部的第一方向上的开口尺寸以及第二方向上的开口尺寸。
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