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公开(公告)号：CN113203256B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202110149368.4
申请日：2021-02-03
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 田村翔
Abstract: 本发明提供干燥装置、基板处理装置和基板保持架的干燥方法。干燥装置能够除去在基板保持架的干燥时在干燥槽的内部浮游的颗粒物。本发明的干燥装置(300)具备：干燥槽(320)，其具有壁(322)、用于向壁的内表面供给液体的液体供给口(334)及用于排出内部的液体的排出口(336)；多个喷嘴(340)，其用于向基板保持架(200)喷射气体；液体供给单元(312)，其用于从液体供给口向干燥槽的内部供给液体；气体供给单元(310)，其用于向多个喷嘴供给气体；控制装置(380)，控制装置控制液体供给单元和气体供给单元，使得在液体供给口向壁的内表面供给液体的期间，多个喷嘴向基板保持架或者基板(W)喷射气体。
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公开(公告)号：CN113203256A
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN202110149368.4
申请日：2021-02-03
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 田村翔
Abstract: 本发明提供干燥装置、基板处理装置和基板保持架的干燥方法。干燥装置能够除去在基板保持架的干燥时在干燥槽的内部浮游的颗粒物。本发明的干燥装置(300)具备：干燥槽(320)，其具有壁(322)、用于向壁的内表面供给液体的液体供给口(334)及用于排出内部的液体的排出口(336)；多个喷嘴(340)，其用于向基板保持架(200)喷射气体；液体供给单元(312)，其用于从液体供给口向干燥槽的内部供给液体；气体供给单元(310)，其用于向多个喷嘴供给气体；控制装置(380)，控制装置控制液体供给单元和气体供给单元，使得在液体供给口向壁的内表面供给液体的期间，多个喷嘴向基板保持架或者基板(W)喷射气体。
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公开(公告)号：CN108396360A
公开(公告)日：2018-08-14
申请号：CN201810122732.6
申请日：2018-02-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06 , C25D17/00 , C25D5/02 , C25D7/12 , H01L21/687 , H01L21/768
CPC classification number: C25D17/004 , C25D5/028 , C25D5/10 , C25D17/001 , C25D17/005 , C25D17/008 , C25D17/06 , H01L21/2885 , C25D5/02 , C25D7/12 , H01L21/68785 , H01L21/76838
Abstract: 本发明提供电镀装置、与电镀装置一同使用的基板保持架、电镀方法、计算机程序及存储介质。电镀装置能够在基板的表面和背面上单独地控制电镀工艺，基板保持架能够在这样的电镀装置中使用。提供用于在电镀处理中保持作为电镀对象物的基板的基板保持架，该基板保持架具有用于保持基板的主体部，该主体部具有第一开口部和第二开口部，主体部构成为当在主体部上保持基板时，通过第一开口部将基板的表面的被电镀区域露出，通过第二开口部将基板的背面的被电镀区域露出，在主体部的外周部的至少一部分具有从外周部突出的密封部。
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