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公开(公告)号：CN113355729B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202110032620.3
申请日：2021-01-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种镀敷装置及电阻体。所述镀敷装置对具有圆形的镀敷区域的基板实施镀敷处理。所述镀敷装置包括：阳极，配置于镀敷槽；基板固持器，保持基板并以与阳极相向的方式配置；基板接点，与基板的周缘部接触并向基板供给电流；电阻体，以与基板固持器相向的方式配置于阳极与基板固持器之间，用于调整阳极与基板之间的离子移动；以及旋转驱动机构，使电阻体与基板固持器绕轴线相对地旋转。电阻体包括：遮蔽区域，其形成外框，阻断阳极与基板之间的离子移动；以及电阻区域，形成于遮蔽区域的径向内侧，具有允许离子通过的多孔结构。电阻区域的外径具有以假想的基准圆为中心的振幅，具有周期性且呈环状连续的波形形状。
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公开(公告)号：CN115787054A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211510136.8
申请日：2018-12-24
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种尽可能地防止粉末飞散的粉末供给装置及镀敷系统。提供一种将包含镀覆中使用的金属的粉末向镀覆液供给的粉末供给装置。该粉末供给装置具有：构成为收纳镀覆液的镀覆液箱；用于向镀覆液箱内投入粉末的投入配管；用于供给气体的气体供给管路；和构成为接收来自气体供给管路的气体、并在投入配管的内部生成朝向镀覆液箱的螺旋气流的螺旋气流生成部件。
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公开(公告)号：CN109930189B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN201811538703.4
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 在本发明中，提供一种能够安装于搅拌器的消波部件及具有消波部件的镀覆装置，该搅拌器能够为了搅拌液体而沿水平方向移动，即使搅拌镀覆液也尽可能地不使镀覆液的表面紊乱而抑制镀覆液跳起或产生飞沫。所述消波部件具有：以在沿水平方向移动时在液面上移动的方式构成的薄板状的主体部；和从上述主体部朝向端部构成得细的前端部。
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公开(公告)号：CN113652729A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202110518132.3
申请日：2021-05-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明涉及板、镀覆装置以及板的制造方法。抑制在板上形成的孔的分布的局部各向异性。本发明提供在镀覆槽中配置在基板与阳极之间的板。该板在同心且直径不同的3个以上的基准圆上分别具有多个圆形的孔，分别配置于相邻的3个上述基准圆上的3个上述孔的中心不排列在板的任意的半径上。
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公开(公告)号：CN109722704B
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN201811277023.1
申请日：2018-10-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种对基板进行镀覆的镀覆装置及镀覆方法。该镀覆装置具有：构成为收纳镀覆液的镀覆槽；配置于所示镀覆槽的内部，并且构成为沿着基板的表面在往复方向上移动而对镀覆液进行搅拌的搅动件；支承搅动件的第一端部的支承部件；设置于搅动件的第一磁石；以及设置于镀覆槽的第二磁石。第一磁石和第二磁石构成为，在搅动件移动的期间互相施加磁力，以抑制搅动件的与第一端部相反的一侧的第二端部向靠近基板的方向和远离基板的方向振动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111996578A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010320866.6
申请日：2020-04-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 张绍华
Abstract: 一种湿式基板处理装置以及自动润滑脂供给系统，为负荷小的搅拌用叶片的驱动机构。所述湿式基板处理装置包括用以保持处理液的处理槽、配置于所述处理槽的内侧的搅拌叶片、以及用以驱动所述搅拌叶片的驱动机构；所述驱动机构包括旋转马达、连结于所述旋转马达的中心旋转构件、从所述中心旋转构件分离而包围所述中心旋转构件的外侧的外侧固定环、以在所述外侧固定环的内侧旋转的方式连结于所述中心旋转构件的行星构件、以及连结于所述行星构件及所述搅拌叶片且在所述外侧固定环的半径方向延伸的驱动轴；并且构成为，通过所述旋转马达旋转，所述驱动轴在长度方向进行往复运动。
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公开(公告)号：CN115874258B
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202211510861.5
申请日：2018-12-24
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种尽可能地防止粉末飞散的粉末供给装置及镀敷系统。提供一种将包含镀覆中使用的金属的粉末向镀覆液供给的粉末供给装置。该粉末供给装置具有：构成为收纳镀覆液的镀覆液箱；用于向镀覆液箱内投入粉末的投入配管；用于供给气体的气体供给管路；和构成为接收来自气体供给管路的气体、并在投入配管的内部生成朝向镀覆液箱的螺旋气流的螺旋气流生成部件。
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公开(公告)号：CN111005059B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN201910910467.2
申请日：2019-09-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供清洗装置、具备该清洗装置的电镀装置以及清洗方法，能够使喷嘴配置于基板支架的密封环支架与底板之间，并且能够抑制装置尺寸的增大。提供对具有第一保持部件、和具备使基板露出的开口的第二保持部件的基板支架进行清洗的清洗装置。该清洗装置具有：清洗槽，其构成为收容基板支架；致动器，其构成为使第二保持部件从第一保持部件分离；以及清洗喷嘴，其构成为对收容于清洗槽的基板支架排出清洗液。清洗喷嘴构成为通过第二保持部件的开口。
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公开(公告)号：CN115244227B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202180003017.0
申请日：2021-02-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06
Abstract: 本发明涉及镀覆装置，本发明提供一种能够抑制由旋转机构的轴承产生的颗粒侵入镀覆槽的技术。镀覆装置(1000)具备迷宫式密封部件(50)，迷宫式密封部件具有：内侧迷宫式密封件(53)，配置于比轴承(33)靠下方的位置，且密封轴承；外侧迷宫式密封件(54)，配置于比内侧迷宫式密封件在旋转轴(32)的径向上靠外侧的位置；排出口(55)，构成为向形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的内侧密封空间(60)供给空气；以及吸收口(56)，构成为对形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠外侧且比外侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的外侧密封空间(65)的空气进行吸收。
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公开(公告)号：CN114981486A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202080034254.9
申请日：2020-12-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06
Abstract: 本发明提供能够实现镀覆装置的小型化的技术。镀覆装置具备喷出模块(50)，喷出模块具备：模块主体(51)，具有将处理液朝向上方喷出的多个喷嘴(52)；和移动机构(60)，具有配置于镀覆槽的旁边并且与模块主体连接的旋转轴(61)，通过旋转轴旋转来使模块主体移动，移动机构使模块主体在第1位置与第2位置之间移动，多个喷嘴配置为在模块主体移动至第2位置的情况下，从多个喷嘴喷出的处理液从基板的下表面的中心部起抵接至外周缘部，模块主体还具备回收部件，上述回收部件构成为对在被从多个喷嘴喷出并与基板的下表面抵接之后落下的处理液进行回收。
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