半导体模块、半导体模块的制造方法和便携设备

    公开(公告)号:CN101231963A

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200710307782.3

    申请日:2007-09-29

    Inventor: 冈山芳央

    Abstract: 本发明提供一种半导体模块、半导体模块的制造方法和便携设备。在将突起结构埋入绝缘层中以将金属板、绝缘层和电路元件层积的半导体模块中,使突起结构和电路元件的电极的连接可靠性提高。准备在表面具有电极和保护膜的半导体基板形成为矩阵状的半导体晶片。接下来,在半导体晶片(半导体基板)的表面,在半导体基板、和一体地形成突起部并且在其附近具有沟槽部的铜板之间夹持绝缘层。在进行这样的夹持之后,通过用加压装置进行加压成形将半导体基板、绝缘层和铜板一体化。由此突起部贯通绝缘层,突起部和电极被电连接。与此同时,被突起部挤出的多余的绝缘层流到沟槽部内。

    半导体装置的制造方法
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1658368A

    公开(公告)日:2005-08-24

    申请号:CN200510009363.2

    申请日:2005-02-17

    CPC classification number: H01L21/76898 H01L2224/02372 H01L2224/05548

    Abstract: 一种抑制生产性极其低下和开口形状恶化的蚀刻方法,其具有如下工序:在半导体衬底(1)的表面粘接支承板(5),覆盖介由氧化硅膜(2)形成在上述半导体衬底(1)上的焊盘电极(3);形成通孔(9),从上述半导体衬底(1)的背面到达上述焊盘电极(3)的表面。该蚀刻方法还具有如下工序:使用至少含有SF6和O2的蚀刻气体对上述半导体衬底(1)形成第一开口(7)直到上述氧化硅膜(2)不露出的位置;使用至少含有C4F8和SF6的蚀刻气体对上述半导体衬底(1)形成第二开口(8)直到上述氧化硅膜(2)露出的位置。

    半导体模块、半导体模块的制造方法以及便携式设备

    公开(公告)号:CN101312169A

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200810142810.5

    申请日:2008-01-31

    CPC classification number: H01L2224/11

    Abstract: 本发明提供一种半导体模块、半导体模块的制造方法以及便携式设备,其目的在于提高半导体模块的电极部的连接可靠性。在半导体模块中成为半导体基板的安装面的表面(特别是在外周缘部)形成有半导体元件的电极。为了进一步加宽该电极的间隔,在电极上形成绝缘层,并且形成贯通该绝缘层与电极连接的多个突起部以及一体地设置有这些突起部的再布线图案。再布线图案具有设置突起部的突起区域和与突起区域连接并延伸的布线区域。在此,绝缘层在突起部间形成为具有凹状的上表面,布线区域中的再布线图案则沿着该上表面形成。由此,与突起区域中的再布线图案相比,布线区域中的再布线图案以更向半导体基板的侧凹陷的状态形成。

Patent Agency Ranking