集成晶片结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN107026184A

    公开(公告)日:2017-08-08

    申请号:CN201710061474.0

    申请日:2017-01-26

    Abstract: 在本公开的某些实施例中,涉及集成晶片结构,其具有导体遮蔽结构的配置,以避免第一裸晶中的装置制造的辐射影响第二裸晶中的影像感应元件。导体接合结构具有附有一个或多个半导体装置的第一集成晶片裸晶以及附有影像感应元件阵列的第二集成晶片裸晶。混合接合界面区排列于第一集成晶片裸晶与第二集成晶片裸晶之间。导体接合结构排列于混合接合界面区之中,且配置为将第一集成晶片裸晶电性连接于第二集成晶片裸晶。导体遮蔽结构排列于混合接合界面区之中,且在一个或多个半导体装置与影像感应元件阵列之间横向延伸。

    集成晶片结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN107026184B

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201710061474.0

    申请日:2017-01-26

    Abstract: 在本公开的某些实施例中,涉及集成晶片结构,其具有导体遮蔽结构的配置,以避免第一裸晶中的装置制造的辐射影响第二裸晶中的影像感应元件。导体接合结构具有附有一个或多个半导体装置的第一集成晶片裸晶以及附有影像感应元件阵列的第二集成晶片裸晶。混合接合界面区排列于第一集成晶片裸晶与第二集成晶片裸晶之间。导体接合结构排列于混合接合界面区之中,且配置为将第一集成晶片裸晶电性连接于第二集成晶片裸晶。导体遮蔽结构排列于混合接合界面区之中,且在一个或多个半导体装置与影像感应元件阵列之间横向延伸。

Patent Agency Ranking